| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| ·类金刚石薄膜 | 第8-10页 |
| ·类金刚石薄膜的性能 | 第10-11页 |
| ·力学方面的性能 | 第10页 |
| ·摩擦性能 | 第10页 |
| ·电学性能 | 第10-11页 |
| ·光学性能 | 第11页 |
| ·类金刚石薄膜的应用 | 第11-12页 |
| ·机械行业的应用 | 第11页 |
| ·电学上的应用 | 第11页 |
| ·磁学方面的应用 | 第11页 |
| ·声学上的应用 | 第11页 |
| ·光学上的应用 | 第11-12页 |
| ·医学上的应用 | 第12页 |
| ·类金刚石薄膜的制备方法 | 第12-13页 |
| ·弧光放电及磁过滤阴极电弧沉积法 | 第12页 |
| ·离子束沉积法 | 第12-13页 |
| ·脉冲激光沉积方法 | 第13页 |
| ·磁控溅射沉积方法 | 第13页 |
| ·直流辉光放电等离子体化学气相沉积 | 第13页 |
| ·射频辉光放电等离子体化学气相沉积(RF-PCVD) | 第13页 |
| ·DLC膜的生长机理 | 第13-14页 |
| ·类金刚石薄膜的研究现状 | 第14-15页 |
| ·本文研究的目的和研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 磁控溅射技术及薄膜的表征方法 | 第16-32页 |
| ·磁控溅射原理 | 第16-18页 |
| ·实验设备 | 第18-19页 |
| ·样品的制备 | 第19-20页 |
| ·DLC薄膜的表征方法 | 第20-31页 |
| ·XRD表征分析 | 第20-21页 |
| ·AFM表征分析 | 第21-22页 |
| ·膜厚的测量 | 第22页 |
| ·紫外-可见光光谱(UV-VIS) | 第22-25页 |
| ·拉曼光谱(Raman) | 第25-27页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第27-29页 |
| ·光致发光分析 | 第29-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 掺硅 DLC薄膜结构及性能研究 | 第32-42页 |
| ·掺硅 DLC薄膜的X射线衍射光谱研究 | 第32页 |
| ·掺硅 DLC薄膜的表面形貌研究 | 第32-34页 |
| ·掺硅 DLC薄膜光学透过率及光学带隙研究 | 第34-35页 |
| ·掺硅 DLC薄膜XPS光谱研究 | 第35-38页 |
| ·掺硅 DLC薄膜光致发光研究 | 第38-40页 |
| ·掺硅 DLC薄膜的拉曼光谱研究 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 工艺条件对成膜的影响 | 第42-51页 |
| ·制备参数对无氢DLC薄膜的沉积速率影响 | 第42-44页 |
| ·制备参数对无氢DLC表面形貌的影响 | 第44-45页 |
| ·溅射功率对DLC薄膜表面形貌影响 | 第44页 |
| ·基底温度对DLC薄膜表面形貌的影响 | 第44-45页 |
| ·制备参数对无氢DLC薄膜透射及光学带隙的影响 | 第45-50页 |
| ·溅射功率对DLC薄膜的透射及光学带隙的影响 | 第45-46页 |
| ·基底温度对DLC薄膜的透射光谱及光学带隙的影响 | 第46-48页 |
| ·溅射压强对DLC薄膜的透射光谱及光学带隙的影响 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 结论与展望 | 第51-53页 |
| ·结论 | 第51-52页 |
| ·展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 攻读学位期间主要的研究成果 | 第60页 |