| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-21页 |
| ·引言 | 第8-10页 |
| ·透明导电氧化物研究背景 | 第8-9页 |
| ·p型透明导电薄膜研究现状 | 第9-10页 |
| ·p型透明导电铜铁矿CuAlO_2的理论分析和结构 | 第10-13页 |
| ·p型透明导电铜铁矿CuAlO_2的理论分析 | 第10-12页 |
| ·p型透明导电铜铁矿CuAlO_2的结构 | 第12-13页 |
| ·CuAlO_2薄膜的材料特性 | 第13-15页 |
| ·CuAlO_2薄膜的电学性能 | 第13-14页 |
| ·CuAlO_2薄膜的光学性能 | 第14页 |
| ·CuAlO_2薄膜的热电性能 | 第14页 |
| ·CuAlO_2薄膜的其它性质 | 第14-15页 |
| ·CuAlO_2薄膜的制备方法 | 第15-17页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)法 | 第15页 |
| ·化学气相沉积(CVD)法 | 第15-16页 |
| ·溅射法 | 第16页 |
| ·溶液法 | 第16-17页 |
| ·CuAlO_2薄膜的应用前景 | 第17-19页 |
| ·CuAlO_2的掺杂和p-n结的制作 | 第17-18页 |
| ·利用CuAlO_2制作透明太阳光电板 | 第18-19页 |
| ·臭氧传感器 | 第19页 |
| ·本论文的研究内容及结构 | 第19-21页 |
| 第二章 Cu-Al-O薄膜的制备及表征方法 | 第21-32页 |
| ·实验设备及原理 | 第21-24页 |
| ·实验设备介绍 | 第21-22页 |
| ·磁控溅射基本原理 | 第22-24页 |
| ·Cu-Al-O薄膜的制备 | 第24-25页 |
| ·Cu-Al-O薄膜的表征方法 | 第25-32页 |
| ·晶体结构的表征方法 | 第26-27页 |
| ·表面形貌的测试方法 | 第27页 |
| ·薄膜的成分及各元素化学态的测试 | 第27-29页 |
| ·薄膜的光谱测试 | 第29-30页 |
| ·薄膜的电学性能测量 | 第30-32页 |
| 第三章 Cu-Al-O薄膜的组织结构与电学性能 | 第32-47页 |
| ·Cu-Al-O薄膜的成分及化学态 | 第32-34页 |
| ·退火处理对薄膜结构和电学性能的影响 | 第34-39页 |
| ·表面形貌 | 第35-36页 |
| ·XRD分析 | 第36-37页 |
| ·电学性能 | 第37-39页 |
| ·氧氩比对薄膜结构和电学性能的影响 | 第39-42页 |
| ·表面形貌 | 第39-40页 |
| ·XRD分析 | 第40-41页 |
| ·电学性能 | 第41-42页 |
| ·Cu/Al溅射功率对薄膜结构和电学性能的影响 | 第42-45页 |
| ·表面形貌 | 第43-44页 |
| ·XRD分析 | 第44页 |
| ·电学性能 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 Cu-Al-O薄膜的光学性能 | 第47-54页 |
| ·薄膜光学带隙的计算方法 | 第47-49页 |
| ·衬底温度对薄膜光学性能的影响 | 第49-51页 |
| ·氧氩比对薄膜对薄膜光学性能的影响 | 第51-52页 |
| ·溅射功率对薄膜光学性能的影响 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第五章 结论与展望 | 第54-56页 |
| ·结论 | 第54-55页 |
| ·后续工作的展望 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的论文 | 第63页 |