高热负载水冷弧矢聚焦双晶单色器研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-26页 |
| ·同步辐射 | 第9-11页 |
| ·同步辐射发展状况 | 第9-10页 |
| ·同步辐射光源的应用 | 第10-11页 |
| ·同步辐射光束线 | 第11-14页 |
| ·软X射线/真空紫外光束线 | 第12-13页 |
| ·硬X射线光束线 | 第13-14页 |
| ·光束线中的单色器 | 第14-19页 |
| ·光栅单色器 | 第14-17页 |
| ·晶体单色器 | 第17-19页 |
| ·硬X射线光束线中的晶体单色器关键技术 | 第19-21页 |
| ·晶体的热缓释与冷却技术研究 | 第19页 |
| ·晶体弧矢压弯聚焦技术 | 第19-20页 |
| ·固定光束出射口技术 | 第20页 |
| ·精密机械微调机构 | 第20-21页 |
| ·异形晶体加工和焊接技术 | 第21页 |
| 本章小结 | 第21-22页 |
| 参考文献 | 第22-26页 |
| 第二章 单色器晶体的高热负载与面形研究 | 第26-42页 |
| ·晶体高热负载的研究 | 第26-30页 |
| ·弯转磁铁光源热负载 | 第26-28页 |
| ·高热负载对晶体的影响 | 第28-30页 |
| ·晶体热变形与能量分辨 | 第30页 |
| ·高热负载热缓释方式 | 第30-38页 |
| ·晶体材料的选择 | 第31-32页 |
| ·冷却介质的选择 | 第32-34页 |
| ·晶体冷却结构 | 第34-38页 |
| 本章小结 | 第38-40页 |
| 参考文献 | 第40-42页 |
| 第三章 晶体单色器的关键技术研究 | 第42-87页 |
| ·高精度异形晶体的焊接技术研究 | 第42-45页 |
| ·晶体的扩散焊接 | 第42-43页 |
| ·影响晶体扩散焊接质量的因素 | 第43-45页 |
| ·单色器晶体压弯聚焦原理 | 第45-47页 |
| ·晶体的压弯机构研究 | 第47-53页 |
| ·晶体压弯结构研究 | 第48-51页 |
| ·晶体压弯机构 | 第51-53页 |
| ·晶体机械压弯模型的研究 | 第53-66页 |
| ·基于柔性铰链的压弯模型研究 | 第53-61页 |
| ·基于四点压弯原理的压弯模型 | 第61-66页 |
| ·晶体的精密微调机构 | 第66-71页 |
| ·第一晶体微调机构 | 第66-70页 |
| ·第二晶体微调机构 | 第70-71页 |
| ·固定光束出射口技术理论研究 | 第71-83页 |
| ·刚性结构型 | 第72-74页 |
| ·补偿运动型 | 第74-81页 |
| ·出入射光束高差的误差分析 | 第81-83页 |
| 本章小结 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-87页 |
| 第四章 水冷弧矢聚焦双晶单色器的研制 | 第87-121页 |
| ·设计参数和目标 | 第87-91页 |
| ·工程背景及意义 | 第87-88页 |
| ·主要性能指标 | 第88-89页 |
| ·单色器的总体布局及系统组成 | 第89-91页 |
| ·水冷却晶体 | 第91-99页 |
| ·晶体冷却结构设计 | 第92-93页 |
| ·晶体结构参数分析 | 第93-97页 |
| ·晶体的扩散焊性能检测 | 第97-99页 |
| ·弧矢压弯晶体装置 | 第99-108页 |
| ·压弯装置系统设计 | 第99-101页 |
| ·晶体压弯机构的分析 | 第101-108页 |
| ·晶体微调机构 | 第108-115页 |
| ·水冷晶体多维精密微调装置 | 第108-109页 |
| ·二晶多维精密微调装置 | 第109-115页 |
| ·单色器的性能检测 | 第115-119页 |
| ·Bragg轴系精度检测 | 第115-116页 |
| ·弧矢压弯半径的测量 | 第116-117页 |
| ·能量分辨和摇摆曲线的在线测试 | 第117-119页 |
| 本章小结 | 第119-120页 |
| 参考文献 | 第120-121页 |
| 第五章 晶体单色器研制的总结与展望 | 第121-125页 |
| ·研制总结 | 第121-122页 |
| ·特点和创新性 | 第122-123页 |
| ·发展与展望 | 第123-125页 |
| 攻读博士学位期间发表的文章 | 第125-126页 |
| 致谢 | 第126页 |
