400-1100nm宽带增透膜的设计与制备
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-10页 |
| ·薄膜的发展 | 第7页 |
| ·宽带增透膜的发展及应用 | 第7-8页 |
| ·论文研究的内容 | 第8-10页 |
| 第二章 薄膜设计理论 | 第10-19页 |
| ·光学薄膜的特性计算 | 第10-14页 |
| ·双有效界面法 | 第14-16页 |
| ·介质多层膜的弱吸收计算 | 第16-19页 |
| 第三章 增透膜设计理论 | 第19-32页 |
| ·宽带增透膜的使用要求 | 第19页 |
| ·薄膜材料的选择 | 第19-24页 |
| ·选择薄膜材料的依据 | 第19-21页 |
| ·选择薄膜材料 | 第21-24页 |
| ·增透膜设计理论基础 | 第24-30页 |
| ·单层膜的减反射原理及计算 | 第24-26页 |
| ·双层减反射膜的原理及计算 | 第26-27页 |
| ·三层减反射膜的原理及计算 | 第27-28页 |
| ·多层膜膜系的优化方法 | 第28-30页 |
| ·课题设计方案 | 第30-32页 |
| 第四章 制备工艺 | 第32-45页 |
| ·薄膜的制备装置 | 第32-37页 |
| ·主要工艺因素分析 | 第37-38页 |
| ·成膜过程 | 第38-41页 |
| ·镀膜材料折射率的确定 | 第41-43页 |
| ·制备工艺过程 | 第43-45页 |
| 第五章 误差及测试结果分析 | 第45-50页 |
| ·实验结果 | 第45-46页 |
| ·误差分析 | 第46-49页 |
| ·薄膜质量检测 | 第49-50页 |
| 结论 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-54页 |
| 论文发表情况 | 第54页 |
