摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
目录 | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第8-26页 |
§1.1 引言 | 第8页 |
§1.2 酞菁化合物的状况 | 第8-15页 |
§1.3 金属酞菁静电自组装膜的研究及发展 | 第15-17页 |
§1.4 非线性光学简介 | 第17-20页 |
§1.5 非线性光学材料的测试方法及理论 | 第20-24页 |
§1.6 酞菁化合物的电化学性质及研究 | 第24-25页 |
§1.7 本文所做的工作 | 第25-26页 |
第二章 实验部分 | 第26-30页 |
§2.1 试剂及仪器 | 第26-27页 |
§2.2 样品合成 | 第27页 |
§2.3 静电自组装膜组装原理 | 第27-28页 |
§2.4 测试和表征手段 | 第28-30页 |
第三章 磺化酞菁锡自组装膜的制备及电化学性能测试 | 第30-44页 |
§3.1 磺化酞菁锡的制备 | 第30-32页 |
§3.2 磺化酞菁锡静电自组装膜的制备 | 第32页 |
§3.3 磺化酞菁锡静电自组装膜的紫外-可见光谱分析 | 第32-37页 |
§3.4 磺化酞菁锡静电自组装膜的原子力显微镜分析 | 第37-39页 |
§3.5 DR/SnPsTc多层膜的电化学性能测试及分析 | 第39-43页 |
§3.6 小结 | 第43-44页 |
第四章 磺化酞菁氧钒自组装膜的制备及三阶非线性性能研究 | 第44-61页 |
§4.1 磺化酞菁氧钒的制备 | 第44-47页 |
§4.2 磺化酞菁氧钒静电自组装膜的制备 | 第47页 |
§4.3 磺化酞菁氧钒静电自组装膜的紫外-可见光谱分析 | 第47-53页 |
§4.4 磺化酞菁氧钒静电自组装膜的原子力显微镜分析 | 第53-57页 |
§4.5 三阶非线性性能测试 | 第57-60页 |
§4.6 小结 | 第60-61页 |
第五章 结论 | 第61-62页 |
展望 | 第62-63页 |
致谢 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-67页 |
文章发表情况 | 第67页 |