| 摘要 | 第1-10页 |
| ABSTRACT | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-18页 |
| ·课题来源及意义 | 第12-13页 |
| ·课题的来源 | 第12页 |
| ·课题研究的背景及意义 | 第12-13页 |
| ·氟化钙单晶材料的加工技术现状 | 第13-15页 |
| ·单点金刚石加工(SPDT) | 第13-14页 |
| ·离子束加工(IBF) | 第14页 |
| ·磁流变抛光(MRF) | 第14-15页 |
| ·磁流变抛光技术的发展 | 第15-17页 |
| ·本文主要研究内容 | 第17-18页 |
| 第二章 磁流变抛光抑制中频误差的工艺研究 | 第18-31页 |
| ·影响磁流变加工中频误差的因素和解决方法 | 第18页 |
| ·磁流变随机行距法抛光抑制中频误差的仿真分析 | 第18-27页 |
| ·理论分析 | 第18-21页 |
| ·磁流变固定行距法抛光残留误差仿真模型的建立 | 第21-23页 |
| ·磁流变随机行距法抛光残留误差仿真模型的建立 | 第23-25页 |
| ·磁流变随机行距法抛光与磁流变固定行距法抛光仿真结果比较 | 第25-27页 |
| ·磁流变随机行距法抛光抑制中频误差实验 | 第27-30页 |
| ·磁流变随机行距法抛光和固定行距法抛光面形结果比较 | 第27-29页 |
| ·磁流变抛光随机行距法和固定行距法仿真残留误差的PSD 曲线 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 氟化钙单晶材料磁流变抛光工艺参数优化研究 | 第31-40页 |
| ·磁流变工艺参数对氟化钙单晶材料去除效率的影响实验 | 第31-34页 |
| ·去除效率实验结果的测量方法 | 第31页 |
| ·实验方法的选择 | 第31-32页 |
| ·实验设计和实验结果的处理和分析 | 第32-34页 |
| ·磁流变工艺参数对氟化钙单晶材料表面粗糙度的影响实验 | 第34-39页 |
| ·表面粗糙度实验结果的测量方法 | 第34-35页 |
| ·实验方案的设计 | 第35-36页 |
| ·实验结果的处理和分析 | 第36-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 各向异性氟化钙单晶材料的磁流变抛光修形理论 | 第40-53页 |
| ·氟化钙单晶材料的结构特性和力学特性 | 第40-43页 |
| ·氟化钙单晶材料的晶体结构 | 第40页 |
| ·氟化钙单晶材料的力学特性 | 第40-43页 |
| ·材料力学特性对磁流变抛光去除模型的影响 | 第43页 |
| ·磁流变抛光氟化钙单晶材料面形残差的仿真分析 | 第43-50页 |
| ·常规磁流变工艺抛光氟化钙单晶材料面形残差仿真分析 | 第44-48页 |
| ·磁流变驻留时间补偿工艺抛光氟化钙单晶材料的面形仿真 | 第48-50页 |
| ·面形残差仿真结果比较和分析 | 第50页 |
| ·磁流变机床后置处理理论研究 | 第50-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 总结和展望 | 第53-55页 |
| ·全文总结 | 第53页 |
| ·研究展望 | 第53-55页 |
| 致谢 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第60页 |
