射频磁控溅射法制备PZT薄膜工艺与结构性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-26页 |
| ·铁电体 | 第10-11页 |
| ·铁电材料的结构 | 第11-13页 |
| ·铁电薄膜的制备 | 第13-19页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第13-14页 |
| ·真空蒸发 | 第14-15页 |
| ·溶胶-凝胶 | 第15页 |
| ·化学气相沉积 | 第15-16页 |
| ·分子束外延 | 第16-17页 |
| ·溅射 | 第17-19页 |
| ·MPS-5000 薄膜溅射系统 | 第19页 |
| ·铁电薄膜的性质 | 第19-22页 |
| ·自发极化 | 第20页 |
| ·极化反转与电滞回线 | 第20-21页 |
| ·热释电性 | 第21-22页 |
| ·铁电薄膜的发展及应用 | 第22-24页 |
| ·非挥发性铁电随机存取存储器 | 第23-24页 |
| ·铁电动态随机存取存储器 | 第24页 |
| ·研究动机和主要内容 | 第24-26页 |
| 第二章 衬底与电极 | 第26-38页 |
| ·衬底的选择 | 第26页 |
| ·衬底的预处理 | 第26-27页 |
| ·电极的选择 | 第27-29页 |
| ·顶电极制备 | 第29-30页 |
| ·下电极的制备 | 第30-37页 |
| ·溅射温度对Pt 电极的影响 | 第31-34页 |
| ·热处理温度对Pt 电极的影响 | 第34-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 PZT 薄膜溅射工艺与分析 | 第38-50页 |
| ·射频磁控溅射法制备PZT 薄膜 | 第38-39页 |
| ·溅射气氛影响 | 第39-40页 |
| ·溅射气压影响 | 第40-42页 |
| ·衬底温度影响 | 第42-48页 |
| ·溅射功率影响 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 PZT 薄膜热处理工艺与分析 | 第50-65页 |
| ·PZT 薄膜的快速热处理工艺 | 第51页 |
| ·退火温度的影响 | 第51-55页 |
| ·保温时间的影响 | 第55-57页 |
| ·退火气氛的影响 | 第57-60页 |
| ·升温速率的影响 | 第60-62页 |
| ·升温模式的影响 | 第62-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 结论 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第72-73页 |
