| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-20页 |
| ·钼酸镧基的结构、性质 | 第11-15页 |
| ·La_2Mo_2O_9的结构和性质 | 第11-12页 |
| ·La_2Mo_2O_9掺杂的结构和性质 | 第12-13页 |
| ·La_6Mo_8O_33结构和性质 | 第13页 |
| ·La_2Mo_3O_12结构和性质 | 第13-15页 |
| ·钼酸镧基的应用 | 第15-17页 |
| ·La_2Mo_2O_9的应用 | 第15-16页 |
| ·La_2Mo_3O_12即其掺杂的应用 | 第16-17页 |
| ·钼酸镧基薄膜的制备和性质 | 第17-18页 |
| ·本论文研究的目的、内容 | 第18-20页 |
| 第二章 薄膜的制备及生长特点 | 第20-34页 |
| ·薄膜制备方法 | 第20-26页 |
| ·真空蒸发 | 第20页 |
| ·分子束外延 | 第20页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第20-21页 |
| ·化学气相沉积 | 第21页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第21-22页 |
| ·喷雾热解法 | 第22页 |
| ·溅射法 | 第22-26页 |
| ·薄膜生长特点 | 第26-28页 |
| ·薄膜的生长模式 | 第26-27页 |
| ·薄膜中的缺陷 | 第27-28页 |
| ·薄膜的致密度 | 第28页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第28-33页 |
| ·Χ射线衍射仪 | 第29页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第29-30页 |
| ·拉曼(Raman)光谱仪 | 第30页 |
| ·椭圆偏振仪 | 第30-32页 |
| ·紫外-可见分光光度计 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 La_2Mo_3O_12薄膜的制备和实验参数对薄膜的影响 | 第34-48页 |
| ·靶材的制备和表征 | 第34-39页 |
| ·La_2Mo_3O_12粉末制备和表征 | 第34-37页 |
| ·靶材的制备和表征 | 第37-39页 |
| ·La_2Mo_3O_12薄膜的制备 | 第39-46页 |
| ·实验设备 | 第39-40页 |
| ·实验步骤和实验参数 | 第40-42页 |
| ·影响沉积速率的因素和分析 | 第42-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 热处理对La_2Mo_3O_12薄膜结构的影响 | 第48-54页 |
| ·实验 | 第48-49页 |
| ·表征方法 | 第49页 |
| ·结果和讨论 | 第49-53页 |
| ·表面形貌 | 第49-51页 |
| ·XRD分析 | 第51-53页 |
| ·本章总结 | 第53-54页 |
| 第五章 La_2Mo_3O_12薄膜的光学性能研究 | 第54-62页 |
| ·薄膜的制备 | 第54-55页 |
| ·测试方法 | 第55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-61页 |
| ·表面形貌 | 第55-56页 |
| ·XRD分析 | 第56-57页 |
| ·光吸收性能 | 第57-59页 |
| ·光学常数 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第六章 全文总结 | 第62-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 个人简历 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
