摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
目录 | 第8-10页 |
第一章 前言 | 第10-28页 |
·自组装超薄膜的制备方法 | 第10-13页 |
·基于化学吸附的自组装膜技术(SA) | 第10-11页 |
·LB膜技术 | 第11页 |
·旋涂法 | 第11页 |
·交替沉淀技术 | 第11-13页 |
·静电自组装的实施 | 第13-22页 |
·用于LBL静电自组装的基底 | 第13-14页 |
·用于LBL静电自组装的材料 | 第14-22页 |
·LBL自组装动力学及结构的调整 | 第22-23页 |
·LBL自组装动力学 | 第22页 |
·LBL自组装膜结构的调整 | 第22-23页 |
·LBL自组装膜表征技术 | 第23-25页 |
·X射线衍射和中子散射 | 第23-24页 |
·红外光谱(IR)和X射线光电子能谱(XPS) | 第24页 |
·原子力显微镜(AFM) | 第24-25页 |
·本文的创新性、研究思路与主要内容 | 第25-28页 |
第二章 聚苯乙烯模板的制备与表征 | 第28-34页 |
·实验部分 | 第28-30页 |
·原料 | 第28页 |
·实验及表征仪器 | 第28页 |
·样品制备 | 第28-29页 |
·PS纳米球组成及其粒径分析 | 第29-30页 |
·结果与讨论 | 第30-33页 |
·PS纳米球结构分析 | 第30-31页 |
·粒径及形貌分析 | 第31-33页 |
·小结 | 第33-34页 |
第三章 羧甲基壳聚糖(CM-CHI)单层膜的制备及其形貌表征 | 第34-51页 |
·实验部分 | 第34-35页 |
·原料 | 第34页 |
·实验仪器 | 第34页 |
·CM-CHI单层膜的制备 | 第34页 |
·AFM表征 | 第34-35页 |
·结果与讨论 | 第35-49页 |
·溶液pH值对CM-CHI自组装单层膜形貌的影响 | 第35-41页 |
·冲洗用水pH值对CM-CHI自组装单层膜形貌的影响 | 第41-48页 |
·CM-CHI单层膜的两种特殊形貌 | 第48-49页 |
·小结 | 第49-51页 |
第四章 CM-CHI单层膜对PS纳米球吸附行为的影响 | 第51-63页 |
·实验部分 | 第51-52页 |
·原料 | 第51页 |
·实验仪器 | 第51页 |
·CM-CHI/PS纳米球自组装膜的制备 | 第51页 |
·PS纳米球吸附行为表征条件 | 第51-52页 |
·结果与讨论 | 第52-62页 |
·PS纳米球自组装的驱动力 | 第52-54页 |
·PS纳米球自组装动力学 | 第54-60页 |
·制膜方法对PS自组装行为的影响 | 第60-61页 |
·PS自组装过程中冲洗用水盐浓度对覆盖率的影响 | 第61-62页 |
·小结 | 第62-63页 |
结论 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-71页 |
个人简历和硕士期间科研情况 | 第71-72页 |
致谢 | 第72页 |