| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1 引言 | 第11-28页 |
| ·负热膨胀材料 | 第11-14页 |
| ·无机材料的热膨胀 | 第11-12页 |
| ·钨(钼)酸盐类负热膨胀材料的常用合成方法 | 第12-13页 |
| ·钨(钼)酸盐类负热膨胀材料的研究现状和应用前景 | 第13-14页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第14-22页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第14页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第14页 |
| ·分子束外延技术(MBE) | 第14-15页 |
| ·喷雾热解法(Spray Pyrolysis) | 第15-16页 |
| ·磁控溅射法 | 第16-22页 |
| ·磁控溅射的优点 | 第20页 |
| ·直流磁控溅射 | 第20-21页 |
| ·射频磁控溅射 | 第21-22页 |
| ·Y_2Mo_3O_12薄膜的表征手段 | 第22-26页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第22-23页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第23页 |
| ·紫外-可见分光光度计 | 第23-24页 |
| ·变温Raman光谱研究 | 第24-25页 |
| ·椭圆偏振仪 | 第25页 |
| ·伏安法测电阻 | 第25-26页 |
| ·本文的选题依据、目的和内容 | 第26-28页 |
| 2 Y_2Mo_3O_12多晶陶瓷靶的制备 | 第28-31页 |
| ·靶材的制备及测试 | 第28-30页 |
| ·靶材的制备 | 第28页 |
| ·样品的测试 | 第28页 |
| ·XRD分析 | 第28-29页 |
| ·Raman光谱分析 | 第29-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 3 Y_2Mo_3O_12薄膜制备工艺的研究 | 第31-39页 |
| ·实验设备 | 第31-32页 |
| ·衬底的选择和清洗 | 第32页 |
| ·衬底的选择 | 第32页 |
| ·衬底的清洗 | 第32页 |
| ·实验步骤与实验参数 | 第32-34页 |
| ·影响沉积速率的因素分析 | 第34-35页 |
| ·溅射功率与沉积速率的关系 | 第34-35页 |
| ·工作气压与沉积速率的关系 | 第35页 |
| ·薄膜生长过程研究 | 第35-38页 |
| ·薄膜生长过程及生长模式概述 | 第35-37页 |
| ·沉积速率和衬底温度对薄膜组织的影响 | 第37页 |
| ·非晶薄膜 | 第37页 |
| ·薄膜与衬底材料之间的关系 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 4 退火温度对Y_2Mo_3O_12薄膜结构的影响 | 第39-42页 |
| ·实验 | 第39-40页 |
| ·结果与分析 | 第40-42页 |
| ·XRD分析 | 第40页 |
| ·表面形貌分析 | 第40-42页 |
| 5 Y_2Mo_3O_12薄膜结构、吸湿性及光电性能研究 | 第42-52页 |
| ·实验 | 第42-43页 |
| ·磁控溅射法制备Y_2Mo_3O_12薄膜 | 第42-43页 |
| ·测试方法 | 第43页 |
| ·结果与分析 | 第43-51页 |
| ·表面形貌 | 第43-44页 |
| ·XRD分析 | 第44-45页 |
| ·变温Raman分析 | 第45-46页 |
| ·光吸收性能 | 第46-47页 |
| ·光学常数 | 第47-48页 |
| ·伏安法测电阻 | 第48-49页 |
| ·Y_2Mo_3O_12薄膜的光电响应特性 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 6 全文总结 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59页 |