| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-25页 |
| 1.1 半导体光催化技术概述 | 第8-12页 |
| 1.1.1 半导体光催化的原理及存在的主要问题 | 第9-11页 |
| 1.1.2 改善半导体光催化性能的有效途径 | 第11-12页 |
| 1.2 构造半导体复合光催化材料 | 第12-19页 |
| 1.2.1 传统型半导体异质结 | 第13-14页 |
| 1.2.2 p-n型半导体异质结 | 第14-16页 |
| 1.2.3 半导体表面异质结 | 第16页 |
| 1.2.4 Z型半导体复合结构 | 第16-17页 |
| 1.2.5 其他复合材料体系 | 第17-19页 |
| 1.2.5.1 多相异质结复合结构 | 第17-18页 |
| 1.2.5.2 石墨烯类复合结构 | 第18-19页 |
| 1.3 层状卤氧化铋光催化材料 | 第19-22页 |
| 1.3.1 电子结构 | 第20-21页 |
| 1.3.2 相的转变 | 第21-22页 |
| 1.3.3 内电场 | 第22页 |
| 1.4 立题依据和研究内容 | 第22-25页 |
| 1.4.1 立题依据 | 第22-23页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第23-24页 |
| 1.4.3 研究特色与创新 | 第24-25页 |
| 第二章 实验部分 | 第25-33页 |
| 2.1 仪器与试剂 | 第25-26页 |
| 2.1.1 实验仪器 | 第25-26页 |
| 2.1.2 实验试剂 | 第26页 |
| 2.2 实验内容 | 第26-33页 |
| 2.2.1 催化剂的制备 | 第26-27页 |
| 2.2.2.1 制备Bi_3O_4Cl/BiOCl超薄纳米片异质结 | 第26-27页 |
| 2.2.2.2 制备Bi-BiOI和Ag/AgI/Bi-BiOI复合光催化剂 | 第27页 |
| 2.2.2 催化剂的表征 | 第27-29页 |
| 2.2.2.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第27页 |
| 2.2.2.2 扫描电镜(SEM)及透射电镜(TEM) | 第27-28页 |
| 2.2.2.3 原子力显微镜(AFM) | 第28页 |
| 2.2.2.4 紫外可见漫反射吸收光谱(UV-Vis DRS) | 第28页 |
| 2.2.2.5 X射线光电子能谱(XPS) | 第28页 |
| 2.2.2.6 荧光光谱(PL) | 第28页 |
| 2.2.2.7 低温氮气吸附测定比表面积(BET) | 第28-29页 |
| 2.2.2.8 电子顺磁共振谱(ESR)测定 | 第29页 |
| 2.2.2.9 光电化学测试 | 第29页 |
| 2.2.3 光催化性能评价 | 第29-33页 |
| 2.2.3.1 光催化分解水和抗菌反应条件 | 第29-30页 |
| 2.2.3.2 抗菌活性测试 | 第30页 |
| 2.2.3.3 光催化反应装置 | 第30-31页 |
| 2.2.3.4 光催化产氧活性评价 | 第31-33页 |
| 第三章 合成Bi_3O_4Cl/BiOCl超薄层纳米片异质结 | 第33-45页 |
| 3.1 引言 | 第33-34页 |
| 3.2 形成氯氧化铋堆垛单层纳米片异质结 | 第34-38页 |
| 3.2.1 构建超薄层异质结模型 | 第34-35页 |
| 3.2.2 TEM表征 | 第35-36页 |
| 3.2.3 AFM测试 | 第36-37页 |
| 3.2.4 XRD分析 | 第37-38页 |
| 3.2.5 XPS分析 | 第38页 |
| 3.3 超薄层纳米片异质结的光学性质和电子结构 | 第38-41页 |
| 3.4 超薄层纳米片异质结光催化性能测试 | 第41-43页 |
| 3.5 光催化产氧活性循环测试 | 第43-44页 |
| 3.6 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 构筑双孪生Bi和Ag/AgI共修饰BiOI复合结构 | 第45-55页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 Bi-BiOI和Ag/AgI/Bi-BiOI性能研究 | 第45-48页 |
| 4.3 Ag/AgI/Bi-BiOI光催化协同抗菌性能研究 | 第48-50页 |
| 4.4 Ag/AgI/Bi-BiOI协同抗菌机理研究 | 第50-54页 |
| 4.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 结论与展望 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-65页 |
| 在读期间发表及待发表论文 | 第65-67页 |
| 个人简历 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
