| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 镧锰氧化物基钙钛矿化合物 | 第10-17页 |
| 1.1.1 晶体结构 | 第10-13页 |
| 1.1.2 掺杂改性 | 第13-14页 |
| 1.1.3 性质与应用 | 第14-17页 |
| 1.2 镧锰氧化物基薄膜的研究现状 | 第17-20页 |
| 1.3 本论文的研究目的及内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验与测试 | 第22-30页 |
| 2.1 实验原料 | 第22-25页 |
| 2.1.1 靶材 | 第22-23页 |
| 2.1.2 基片 | 第23-25页 |
| 2.2 实验设计与工艺过程 | 第25-28页 |
| 2.3 测试与表征 | 第28-30页 |
| 2.3.1 物相结构 | 第28-29页 |
| 2.3.2 外延取向 | 第29页 |
| 2.3.3 表面形貌 | 第29页 |
| 2.3.4 电学性能 | 第29-30页 |
| 第3章 La_(0.9)Sr_(0.1)MnO_3薄膜的脉冲激光沉积 | 第30-40页 |
| 3.1 退火处理对La_(0.9)Sr_(0.1)MnO_3薄膜结构的影响 | 第30-33页 |
| 3.1.1 退火温度的影响 | 第31-32页 |
| 3.1.2 退火时间的影响 | 第32-33页 |
| 3.2 激光能量密度对薄膜物相与结构的影响 | 第33-35页 |
| 3.3 沉积温度对薄膜物相与结构的影响 | 第35-36页 |
| 3.4 氧分压对薄膜物相与结构的影响 | 第36-38页 |
| 3.5 小结 | 第38-40页 |
| 第4章 La_(0.9)Sr_(0.1)MnO_3薄膜的外延生长 | 第40-58页 |
| 4.1 不同取向基片上薄膜的外延生长 | 第40-50页 |
| 4.1.1 MgO(100)基片 | 第40-43页 |
| 4.1.2 MgO(110)基片 | 第43-46页 |
| 4.1.3 MgO(111)基片 | 第46-48页 |
| 4.1.4 外延生长关系与晶格匹配性 | 第48-50页 |
| 4.2 不同失配度基片上薄膜的外延生长 | 第50-57页 |
| 4.2.1 SrTiO_3(100)基片 | 第50-53页 |
| 4.2.2 LaAlO_3(100)基片 | 第53-55页 |
| 4.2.3 外延生长关系与晶格匹配性 | 第55-57页 |
| 4.3 小结 | 第57-58页 |
| 第5章 La_(0.9)Sr_(0.1)MnO_3薄膜的电学性能 | 第58-70页 |
| 5.1 导电模型与导电机制 | 第58-60页 |
5.1.1 T| 第58页 | |
| 5.1.2 T>T_P | 第58-60页 |
| 5.2 电阻率 | 第60-62页 |
| 5.3 导电机制 | 第62-68页 |
| 5.4 小结 | 第68-70页 |
| 第6章 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-76页 |
| 攻读硕士期间发表论文情况 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
