摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第10-24页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 半导体光催化技术 | 第11-14页 |
1.2.1 半导体光催化原理 | 第11-12页 |
1.2.2 光催化技术的应用 | 第12-13页 |
1.2.3 半导体光催化剂研究现状 | 第13-14页 |
1.3 四钛酸钾晶须概述 | 第14-17页 |
1.3.1 四钛酸钾晶须的结构特征 | 第14-15页 |
1.3.2 四钛酸钾晶须的光催化性能 | 第15-16页 |
1.3.3 四钛酸钾晶须的物理化学性能 | 第16页 |
1.3.4 四钛酸钾晶须的应用 | 第16-17页 |
1.4 陶瓷浆料的稳定机制 | 第17-18页 |
1.5 粉体的表面改性 | 第18-21页 |
1.5.1 表面改性的方法 | 第19-20页 |
1.5.2 表面改性剂 | 第20-21页 |
1.6 四钛酸钾晶须改性的研究现状 | 第21-22页 |
1.7 本论文的研究意义 | 第22-23页 |
1.8 本论文主要研究内容 | 第23-24页 |
第二章 硬脂酸改性四钛酸钾晶须 | 第24-40页 |
2.1 硬脂酸改性作用机理 | 第24-25页 |
2.2 实验部分 | 第25-29页 |
2.2.1 实验原料与设备 | 第25页 |
2.2.2 粉体的预处理 | 第25-28页 |
2.2.3 改性工艺流程 | 第28-29页 |
2.3 性能测试 | 第29页 |
2.3.1 浆料的流变性能 | 第29页 |
2.3.2 浆料的稳定性能 | 第29页 |
2.3.3 四钛酸钾晶须性能表征 | 第29页 |
2.4 结果与分析 | 第29-38页 |
2.4.1 硬脂酸用量对浆料固含量的影响 | 第29-30页 |
2.4.2 温度对浆料固含量的影响 | 第30-31页 |
2.4.3 改性时间对浆料固含量的影响 | 第31-32页 |
2.4.4 正交实验分析 | 第32-34页 |
2.4.5 硬脂酸改性K_2Ti_4O_9浆料的分散稳定性 | 第34-36页 |
2.4.6 结构分析 | 第36-38页 |
2.5 本章小结 | 第38-40页 |
第三章 偶联剂改性四钛酸钾晶须 | 第40-53页 |
3.1 实验部分 | 第40-41页 |
3.1.1 实验原料与仪器 | 第40-41页 |
3.1.2 实验设计 | 第41页 |
3.2 性能测试 | 第41-42页 |
3.3 结果与分析 | 第42-52页 |
3.3.1 偶联剂的选择 | 第42页 |
3.3.2 偶联剂KH-792改性作用机理 | 第42-44页 |
3.3.3 偶联剂KH-792用量对浆料固含量的影响 | 第44-45页 |
3.3.4 改性温度对浆料固含量的影响 | 第45-46页 |
3.3.5 改性时间对浆料固含量的影响 | 第46-47页 |
3.3.6 正交实验结果分析 | 第47-48页 |
3.3.7 偶联剂改性对K_2Ti_4O_9晶须表面结构的影响 | 第48-50页 |
3.3.8 偶联剂改性对浆料的胶体特性的影响 | 第50-52页 |
3.4 本章小结 | 第52-53页 |
第四章 双层包覆改性四钛酸钾晶须 | 第53-66页 |
4.1 双层包覆改性机理分析 | 第53-54页 |
4.2 实验部分 | 第54-55页 |
4.2.1 实验原料及仪器 | 第54-55页 |
4.2.2 实验设计 | 第55页 |
4.3 性能测试 | 第55-56页 |
4.4 结果与分析 | 第56-65页 |
4.4.1 引发剂的量对浆料固含量的影响 | 第56-57页 |
4.4.2 丙烯酰胺单体浓度对浆料固含量的影响 | 第57-58页 |
4.4.3 反应温度对浆料固含量的影响 | 第58页 |
4.4.4 反应时间对浆料固含量的影响 | 第58-59页 |
4.4.5 正交实验结果分析 | 第59-61页 |
4.4.6 改性对K_2Ti_4O_9晶须表面结构的影响 | 第61-63页 |
4.4.7 改性对浆料流变特性的影响 | 第63-65页 |
4.5 本章小结 | 第65-66页 |
第五章 K_2Ti_4O_9泡沫陶瓷光催化性能的研究 | 第66-72页 |
5.1 实验部分 | 第66-68页 |
5.1.1 实验原料及仪器 | 第66-67页 |
5.1.2 实验设计 | 第67-68页 |
5.2 分析与表征 | 第68页 |
5.3 结果与分析 | 第68-71页 |
5.3.1 材料光催化性能的评价 | 第68-69页 |
5.3.2 宏观分析 | 第69-70页 |
5.3.3 显微结构分析(SEM) | 第70页 |
5.3.4 K_2Ti_4O_9泡沫陶瓷物相分析(XRD) | 第70-71页 |
5.4 本章小结 | 第71-72页 |
第六章 全文结论 | 第72-73页 |
致谢 | 第73-74页 |
参考文献 | 第74-78页 |
附录:研究生期间发表论文和专利 | 第78页 |