| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 符号说明 | 第8-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-21页 |
| 1.1 课题研究背景与意义 | 第13-14页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第14-20页 |
| 1.2.1 激光抛光机理研究现状 | 第14-17页 |
| 1.2.2 激光抛光工艺规律研究现状 | 第17-20页 |
| 1.3 课题来源及主要研究内容 | 第20页 |
| 1.3.1 课题来源 | 第20页 |
| 1.3.2 主要研究内容 | 第20页 |
| 1.4 本章小结 | 第20-21页 |
| 第二章 短脉冲紫外激光抛光Al_2O_3陶瓷作用机理的理论研究 | 第21-32页 |
| 2.1 短脉冲紫外激光抛光Al_2O_3陶瓷材料的物理作用过程 | 第21-23页 |
| 2.2 短脉冲紫外激光抛光Al_2O_3陶瓷材料的热作用模型 | 第23-27页 |
| 2.3 短脉冲紫外激光抛光Al_2O_3陶瓷材料的热应力作用模型 | 第27-29页 |
| 2.4 短脉冲紫外激光抛光Al_2O_3陶瓷材料的光化学作用模型 | 第29-30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-32页 |
| 第三章 短脉冲紫外激光抛光Al_2O_3陶瓷作用机理的仿真与实验研究 | 第32-53页 |
| 3.1 短脉冲紫外抛光抛光Al_2O_3陶瓷仿真模型的建立 | 第32-33页 |
| 3.2 短脉冲紫外激光抛光Al_2O_3陶瓷的温度场分析 | 第33-37页 |
| 3.3 短脉冲紫外激光抛光Al_2O_3陶瓷的应力场分析 | 第37-41页 |
| 3.4 短脉冲紫外激光抛光Al_2O_3陶瓷作用机理的实验研究 | 第41-52页 |
| 3.5 本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 实验系统和实验研究方案 | 第53-64页 |
| 4.1 Al_2O_3陶瓷的晶体结构与样件处理 | 第53-54页 |
| 4.1.1 晶体结构 | 第53-54页 |
| 4.1.2 实验前后样件的处理 | 第54页 |
| 4.2 实验与检测仪器介绍 | 第54-59页 |
| 4.2.1 实验仪器 | 第55-56页 |
| 4.2.2 检测仪器 | 第56-59页 |
| 4.3 实验研究方法 | 第59-63页 |
| 4.3.1 短脉冲紫外激光单次扫描加工Al_2O_3陶瓷时工艺参数的选择 | 第59-60页 |
| 4.3.2 短脉冲紫外激光抛光Al_2O_3陶瓷时工艺参数的选择 | 第60-63页 |
| 4.4 本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 短脉冲紫外激光抛光Al_2O_3陶瓷仿真分析及其实验研究 | 第64-84页 |
| 5.1 短脉冲紫外激光加工Al_2O_3陶瓷的仿真分析与实验研究 | 第65-72页 |
| 5.1.1 不同能量密度下激光加工Al_2O_3陶瓷的ANSYS仿真和实验研究 | 第65-69页 |
| 5.1.2 不同扫描速度下激光加工Al_2O_3陶瓷的ANSYS仿真与实验研究 | 第69-72页 |
| 5.2 短脉冲紫外激光抛光Al_2O_3陶瓷的工艺规律研究 | 第72-82页 |
| 5.2.1 激光能量密度对抛光质量的影响规律 | 第72-74页 |
| 5.2.2 激光扫描速度对抛光质量的影响规律 | 第74-76页 |
| 5.2.3 激光扫描间距对抛光质量的影响规律 | 第76-78页 |
| 5.2.4 激光离焦量对抛光质量的影响规律 | 第78-80页 |
| 5.2.5 激光扫描方式对抛光质量的影响规律 | 第80-82页 |
| 5.3 本章小结 | 第82-84页 |
| 结论与展望 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-91页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第91-93页 |
| 致谢 | 第93页 |
