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非全屏蔽式电大尺寸辐射发射测试装置研究

摘要第3-5页
abstract第5-6页
第一章 绪论第10-15页
    1.1 研究背景与意义第10-11页
    1.2 国内外研究现状第11-14页
        1.2.1 差分测试方法第11页
        1.2.2 虚拟暗室理论第11-12页
        1.2.3 时域实时EMI测试第12-13页
        1.2.4 小波剔除环境噪声技术第13-14页
    1.3 论文组织结构第14-15页
第二章 电磁兼容现场测试研究第15-31页
    2.1 标准电磁兼容测试第15-16页
    2.2 现场电磁兼容测试第16-17页
    2.3 现场测试存在的问题第17-18页
        2.3.1 现场辐射发射测试存在的主要问题第17页
        2.3.2 现场测试中的主要噪声第17-18页
    2.4 电磁屏蔽原理分析第18-27页
        2.4.1 电屏蔽第18-21页
        2.4.2 磁屏蔽第21-23页
        2.4.3 电磁屏蔽第23页
        2.4.4 反射损耗第23-25页
        2.4.5 吸收损耗第25-26页
        2.4.6 多重反射损耗第26-27页
    2.5 非全屏蔽式辐射发射测试系统分析第27-30页
        2.5.1 非全屏蔽式辐射发射测试系统概述第27-28页
        2.5.2 信号接收系统第28页
        2.5.3 信号处理系统第28-29页
        2.5.4 背景噪声抑制系统第29-30页
    2.6 本章小结第30-31页
第三章 非全屏蔽式辐射发射测试装置仿真分析第31-62页
    3.1 仿真建模第31-32页
    3.2 非全屏蔽箱体内部吸波材料设计第32-39页
        3.2.1 电磁波入射角度对吸波材料损耗特性的影响第33-39页
    3.3 非全屏蔽箱体内部电场分布规律研究第39-47页
        3.3.1 电磁波对不同媒质分界平面的垂直入射第40-41页
        3.3.2 辐射电磁场在箱体内部电场分布第41-43页
        3.3.3 辐射电磁场在非全屏蔽箱体内部驻波比第43-44页
        3.3.4 背景噪声在箱体内部电场分布的影响第44-47页
    3.4 不同入射角度对非全屏蔽箱体内部电场分布影响第47-56页
        3.4.1 电磁波对媒质的斜入射第47-48页
        3.4.2 辐射电磁场入射角度对箱体内部电场分布影响第48-53页
        3.4.3 背景噪声入射角度对箱体内部电场分布的影响第53-56页
    3.5 测量天线接收端场强分布分析第56-60页
        3.5.1 辐射电磁场在测量天线接收端的场强分布第56-58页
        3.5.2 背景噪声在测量天线接收端的场强分布分析第58-60页
    3.6 本章小结第60-62页
第四章 非全屏蔽式辐射发射测试装置相关有效实验验证第62-77页
    4.1 硬件系统第62-66页
        4.1.1 非全屏蔽箱体第62页
        4.1.2 列车等效模型第62-63页
        4.1.3 背景噪声源第63-64页
        4.1.4 测量天线第64-65页
        4.1.5 频谱分析仪第65-66页
    4.2 非全屏蔽箱体内部电场分布实验验证第66-71页
        4.2.1 辐射电磁场在箱体内部电场分布测试验证第66-69页
        4.2.2 辐射电磁场入射角度对屏蔽箱体电场分布测试验证第69-71页
    4.3 测量天线接收端处场强分布规律验证第71-75页
        4.3.1 辐射电磁场在测量天线接收端场强分布测试验证第71-72页
        4.3.2 背景噪声在测量天线接收端场强分布测试验证第72-75页
    4.4 加载吸波材料对背景噪声抑制效果的影响实验验证第75-76页
    4.5 本章小结第76-77页
第五章 结论第77-79页
    5.1 工作总结第77-78页
    5.2 工作展望第78-79页
参考文献第79-83页
致谢第83-84页
个人简历、在学期间的研究成果及发表的学术论文第84页

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