闭空间开口声辐射的有源控制
| 摘要 | 第4-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第13-20页 |
| 1.1 开口声辐射控制简介 | 第13页 |
| 1.2 开口声辐射控制研究现状 | 第13-16页 |
| 1.2.1 被动噪声控制 | 第13-14页 |
| 1.2.2 有源噪声控制 | 第14-16页 |
| 1.3 有源噪声控制概述 | 第16-18页 |
| 1.3.1 全局降噪 | 第16-17页 |
| 1.3.2 局部降噪 | 第17-18页 |
| 1.4 现有相关研究存在的问题 | 第18-19页 |
| 1.5 本文主要工作及全文安排 | 第19-20页 |
| 第二章 平面虚拟声屏障 | 第20-38页 |
| 2.1 引言 | 第20-21页 |
| 2.2 理论 | 第21-26页 |
| 2.2.1 矩形开口空间的声场 | 第21-25页 |
| 2.2.2 有源控制 | 第25-26页 |
| 2.3 数值仿真 | 第26-31页 |
| 2.3.1 矩形开口空间内外声压的仿真验证 | 第26-28页 |
| 2.3.2 平面虚拟声屏障的降噪性能 | 第28-31页 |
| 2.4 平面虚拟声屏障的降噪机理 | 第31-33页 |
| 2.5 实验 | 第33-36页 |
| 2.6 本章小结 | 第36-38页 |
| 第三章 单层边界虚拟声屏障 | 第38-49页 |
| 3.1 引言 | 第38-39页 |
| 3.2 理论 | 第39-40页 |
| 3.2.1 全局控制 | 第39-40页 |
| 3.2.2 局部控制 | 第40页 |
| 3.3 数值仿真 | 第40-44页 |
| 3.3.1 单层边界虚拟声屏障的全局降噪性能 | 第41-43页 |
| 3.3.2 单层边界虚拟声屏障的局部降噪效果 | 第43-44页 |
| 3.4 实验 | 第44-48页 |
| 3.4.1 开口箱体实验 | 第44-46页 |
| 3.4.2 Fabpod实验 | 第46-48页 |
| 3.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 双层边界虚拟声屏障 | 第49-64页 |
| 4.1 引言 | 第49-50页 |
| 4.2 理论 | 第50-51页 |
| 4.3 数值仿真 | 第51-53页 |
| 4.4 双层边界、单层边界和平面虚拟声屏障比较 | 第53-58页 |
| 4.5 虚拟声屏障的降噪频率上限 | 第58-59页 |
| 4.6 实验 | 第59-62页 |
| 4.7 本章小结 | 第62-64页 |
| 第五章 双层边界误差点 | 第64-72页 |
| 5.1 引言 | 第64-65页 |
| 5.2 理论 | 第65-66页 |
| 5.3 边界误差策略 | 第66-69页 |
| 5.3.1 单层边界和双层边界误差比较 | 第66-68页 |
| 5.3.2 边界误差和均布开口误差比较 | 第68-69页 |
| 5.4 实验 | 第69-71页 |
| 5.5 本章小结 | 第71-72页 |
| 第六章 总结及展望 | 第72-76页 |
| 6.1 全文总结 | 第72-74页 |
| 6.2 今后工作 | 第74-76页 |
| 参考文献 | 第76-89页 |
| 致谢 | 第89-90页 |
| 作者在博士研读期间发表论文及主要成果 | 第90-93页 |
