TiO2薄膜的制备及电学性能研究
| 中文摘要 | 第3-4页 |
| 英文摘要 | 第4页 |
| 1 引言 | 第7-19页 |
| 1.1 薄膜材料概述 | 第7-8页 |
| 1.2 二氧化钛薄膜概述 | 第8-12页 |
| 1.2.1 二氧化钛的结构 | 第8-9页 |
| 1.2.2 二氧化钛薄膜的性质和应用 | 第9-11页 |
| 1.2.3 二氧化钛薄膜制备方法 | 第11页 |
| 1.2.4 溅射镀膜简介 | 第11-12页 |
| 1.2.5 磁控溅射的基本原理 | 第12页 |
| 1.3 电阻率概述 | 第12-17页 |
| 1.3.1 薄膜的电阻率意义和方法 | 第13-14页 |
| 1.3.2 薄膜电阻率测量方法 | 第14-17页 |
| 1.4 二氧化钛薄膜的相关研究现状 | 第17页 |
| 1.5 论文的研究目的和意义 | 第17-18页 |
| 1.6 论文的主要研究内容 | 第18-19页 |
| 2 TiO_2薄膜的制备 | 第19-22页 |
| 2.1 制备薄膜的基本步骤 | 第19-22页 |
| 2.1.1 基片的清洗 | 第19-20页 |
| 2.1.2 溅射用的靶材 | 第20页 |
| 2.1.3 镀膜的步骤 | 第20-21页 |
| 2.1.4 磁控溅射参数 | 第21-22页 |
| 3 二氧化钛薄膜的结构变化研究 | 第22-32页 |
| 3.1 X射线光电子能谱分析 | 第22-25页 |
| 3.2 实验参数对TiO_2薄膜表面形貌的影响 | 第25-27页 |
| 3.3 拉曼光谱分析 | 第27-30页 |
| 3.4 本章小结 | 第30-32页 |
| 4 二氧化钛薄膜的电学性能研究 | 第32-39页 |
| 4.1 薄膜厚度测试 | 第32-37页 |
| 4.1.1 台阶仪测试厚度 | 第32-33页 |
| 4.1.2 场发射扫描电镜观察薄膜截面厚度 | 第33-37页 |
| 4.2 制备工艺参数对电阻率的影响 | 第37-38页 |
| 4.3 本章小结 | 第38-39页 |
| 5 结论 | 第39-40页 |
| 致谢 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-44页 |
