| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第14-31页 |
| 1.1 课题背景 | 第14-15页 |
| 1.2 微弧氧化技术研究现状 | 第15-22页 |
| 1.2.1 微弧氧化及其工艺特点 | 第15-16页 |
| 1.2.2 微弧氧化机理的研究现状 | 第16-17页 |
| 1.2.3 大面积和局部微弧氧化技术的研究现状 | 第17-20页 |
| 1.2.4 微弧氧化技术的应用 | 第20-22页 |
| 1.3 微弧氧化工艺对膜层性能的影响 | 第22-28页 |
| 1.3.1 电参数对微弧氧化膜层的影响 | 第22-24页 |
| 1.3.2 电解液对微弧氧化膜层的影响 | 第24-25页 |
| 1.3.3 微弧氧化新方法对膜层性能的影响 | 第25-28页 |
| 1.4 本论文研究目的和意义 | 第28-29页 |
| 1.5 本论文的主要研究内容 | 第29-31页 |
| 第2章 微弧氧化放电和成膜过程研究 | 第31-55页 |
| 2.1 电解质溶液对微弧氧化过程的影响 | 第31-34页 |
| 2.1.1 电解质溶液在微弧氧化过程中的作用 | 第31-33页 |
| 2.1.2 电解质溶液浓度对微弧氧化过程的影响 | 第33-34页 |
| 2.2 电化学反应在微弧氧化过程中的影响 | 第34-39页 |
| 2.2.1 金属表面钝化对微弧氧化过程的影响 | 第34页 |
| 2.2.2 固/液界面电化学双电层对微弧氧化过程的影响 | 第34-39页 |
| 2.3 微弧氧化放电和膜层形成过程研究 | 第39-49页 |
| 2.3.1 气体等离子体击穿放电分析 | 第39-41页 |
| 2.3.2 埋弧氧化现象分析 | 第41-49页 |
| 2.4 微弧氧化处理过程不利因素的分析 | 第49-53页 |
| 2.4.1 微弧氧化的面积效应现象分析 | 第49-51页 |
| 2.4.2 微弧氧化的尖端放电现象分析 | 第51-53页 |
| 2.5 扫描式微弧氧化方法的提出 | 第53-54页 |
| 2.6 本章小结 | 第54-55页 |
| 第3章 扫描式微弧氧化装置的研制 | 第55-71页 |
| 3.1 扫描式微弧氧化装置总体结构 | 第55-57页 |
| 3.1.1 扫描式微弧氧化系统 | 第55-56页 |
| 3.1.2 扫描式微弧氧化装置关键技术 | 第56-57页 |
| 3.2 扫描式微弧氧化脉冲能量输送策略及电源构成 | 第57-61页 |
| 3.2.1 扫描式微弧氧化放电特征的研究 | 第57页 |
| 3.2.2 扫描式微弧氧化能量输送策略的研究 | 第57-59页 |
| 3.2.3 扫描式微弧氧化拓扑结构的设计和能量控制实现 | 第59-61页 |
| 3.3 扫描式微弧氧化放电间隙及伺服系统 | 第61-64页 |
| 3.3.1 扫描式微弧氧化放电间隙分析 | 第61页 |
| 3.3.2 扫描式微弧氧化伺服控制策略分析 | 第61-62页 |
| 3.3.3 扫描式微弧氧化伺服系统的构建 | 第62-64页 |
| 3.4 扫描式微弧氧化电极制作及工作液循环系统 | 第64-67页 |
| 3.4.1 扫描式微弧氧化工具电极的制作 | 第64-66页 |
| 3.4.2 扫描式微弧氧化工作液循环系统 | 第66-67页 |
| 3.5 扫描式微弧氧化装置的膜层处理验证 | 第67-70页 |
| 3.5.1 扫描式微弧氧化装置的负载测试 | 第67页 |
| 3.5.2 扫描式微弧氧化膜层处理 | 第67-68页 |
| 3.5.3 扫描式微弧氧化加工工艺规程 | 第68-70页 |
| 3.6 本章小结 | 第70-71页 |
| 第4章 扫描式微弧氧化工艺研究 | 第71-90页 |
| 4.1 电参数对膜层厚度和表面粗糙度的影响 | 第71-77页 |
| 4.1.1 极间电压对膜层厚度和表面粗糙度的影响 | 第71-73页 |
| 4.1.2 频率对膜层厚度和表面粗糙度的影响 | 第73-75页 |
| 4.1.3 占空比对膜层厚度和表面粗糙度的影响 | 第75-77页 |
| 4.2 工作液浓度对膜层厚度和表面粗糙度的影响 | 第77-79页 |
| 4.3 放电间隙对膜层厚度和硬度的影响 | 第79-80页 |
| 4.4 扫描次数对膜层厚度和硬度的影响 | 第80-82页 |
| 4.5 扫描速度对膜层厚度和表面粗糙度及耐蚀性的影响 | 第82-85页 |
| 4.6 扫描重叠率对膜层厚度和表面粗糙度及耐蚀性的影响 | 第85-89页 |
| 4.7 本章小结 | 第89-90页 |
| 第5章 扫描式微弧氧化成膜特性研究 | 第90-102页 |
| 5.1 扫描式微弧氧化放电特性分析 | 第90-91页 |
| 5.2 单次扫描成膜特点分析 | 第91-94页 |
| 5.3 相邻轨迹之间的成膜特点分析 | 第94-96页 |
| 5.4 多次扫描重复成膜特点分析 | 第96-97页 |
| 5.5 扫描式微弧氧化极间电压特点分析 | 第97-99页 |
| 5.6 扫描式微弧氧化成膜效率分析 | 第99-101页 |
| 5.7 本章小结 | 第101-102页 |
| 第6章 扫描式微弧氧化陶瓷膜层性能研究 | 第102-116页 |
| 6.1 扫描式微弧氧化膜层的微观与结构分析 | 第102-110页 |
| 6.1.1 扫描式微弧氧化膜层微观形貌分析 | 第102-104页 |
| 6.1.2 扫描式微弧氧化膜层成分分析 | 第104-106页 |
| 6.1.3 扫描式微弧氧化膜层截面光学显微镜分析 | 第106-107页 |
| 6.1.4 扫描式微弧氧化膜层表面粗糙度的激光共聚焦分析 | 第107-110页 |
| 6.2 扫描式微弧氧化膜层的耐腐蚀性能分析 | 第110-112页 |
| 6.2.1 扫描式微弧氧化和常规微弧氧化膜层耐腐蚀性能比较分析 | 第110-111页 |
| 6.2.2 不同处理模式下扫描式微弧氧化膜层耐腐蚀性能分析 | 第111-112页 |
| 6.3 扫描式微弧氧化膜层的耐磨性能分析 | 第112-115页 |
| 6.3.1 摩擦系数测试实验条件 | 第112页 |
| 6.3.2 不同载荷条件下扫描式微弧氧化膜层的摩擦系数分析 | 第112-114页 |
| 6.3.3 不同转速条件下扫描式微弧氧化膜层的摩擦系数分析 | 第114-115页 |
| 6.4 本章小结 | 第115-116页 |
| 结论 | 第116-119页 |
| 参考文献 | 第119-130页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第130-132页 |
| 致谢 | 第132-133页 |
| 个人简历 | 第133页 |
