| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 第1章 文献综述 | 第10-27页 |
| 1.1 铌和铌硅化物 | 第10-12页 |
| 1.1.1 铌及其性质 | 第10-11页 |
| 1.1.2 铌硅化物及其性质 | 第11-12页 |
| 1.2 合金化保护 | 第12-14页 |
| 1.3 表面涂层防护 | 第14-23页 |
| 1.3.1 防护涂层体系 | 第15-17页 |
| 1.3.2 硅化物涂层制备方法 | 第17-23页 |
| 1.4 熔盐脉冲电沉积的特点 | 第23-25页 |
| 1.4.1 熔盐电沉积 | 第23-24页 |
| 1.4.2 脉冲电沉积 | 第24-25页 |
| 1.5 课题的研究思路和内容 | 第25-27页 |
| 1.5.1 课题的研究思路 | 第25-26页 |
| 1.5.2 课题的研究内容 | 第26-27页 |
| 第2章 实验材料与方法 | 第27-31页 |
| 2.1 实验材料 | 第27页 |
| 2.2 实验方法 | 第27-29页 |
| 2.2.1 技术路线 | 第27-28页 |
| 2.2.2 材料预处理及准备工作 | 第28页 |
| 2.2.3 电沉积实验 | 第28-29页 |
| 2.2.4 电化学还原实验 | 第29页 |
| 2.3 材料的表征 | 第29-31页 |
| 2.3.1 试样成分分析 | 第29-30页 |
| 2.3.2 试样金相组织观察 | 第30页 |
| 2.3.3 试样截面形貌观察 | 第30页 |
| 2.3.4 试样表面形貌观察 | 第30页 |
| 2.3.5 试样物相检测 | 第30-31页 |
| 第3章 铌表面熔盐脉冲电沉积渗硅工艺的研究 | 第31-60页 |
| 3.1 电流密度对铌表面熔盐脉冲电沉积渗硅层的影响 | 第31-36页 |
| 3.1.1 电流密度对沉积速率的影响 | 第31-32页 |
| 3.1.2 电流密度对渗硅层硅含量的影响 | 第32-33页 |
| 3.1.3 电流密度对渗硅层形貌的影响 | 第33-34页 |
| 3.1.4 电流密度对渗硅层相结构的影响 | 第34-36页 |
| 3.2 沉积温度对铌表面熔盐脉冲电沉积渗硅层的影响 | 第36-40页 |
| 3.2.1 沉积温度对沉积速率的影响 | 第36-37页 |
| 3.2.2 沉积温度对渗硅层硅含量的影响 | 第37页 |
| 3.2.3 沉积温度对渗硅层形貌的影响 | 第37-39页 |
| 3.2.4 沉积温度对渗硅层相结构的影响 | 第39-40页 |
| 3.3 沉积时间对铌表面熔盐脉冲电沉积渗硅层的影响 | 第40-45页 |
| 3.3.1 沉积时间对沉积速率的影响 | 第40-41页 |
| 3.3.2 沉积时间对渗硅层硅含量的影响 | 第41-42页 |
| 3.3.3 沉积时间对渗硅层形貌的影响 | 第42-43页 |
| 3.3.4 沉积时间对渗硅层相结构的影响 | 第43-45页 |
| 3.4 占空比对铌表面熔盐脉冲电沉积渗硅层的影响 | 第45-50页 |
| 3.4.1 占空比对沉积速率的影响 | 第45-46页 |
| 3.4.2 占空比对渗硅层硅含量的影响 | 第46-47页 |
| 3.4.3 占空比对渗硅层形貌的影响 | 第47-49页 |
| 3.4.4 占空比对渗硅层相结构的影响 | 第49-50页 |
| 3.5 频率对铌表面熔盐脉冲电沉积渗硅层的影响 | 第50-55页 |
| 3.5.1 频率对沉积速率的影响 | 第51页 |
| 3.5.2 频率对渗硅层硅含量的影响 | 第51-52页 |
| 3.5.3 频率对渗硅层形貌的影响 | 第52-54页 |
| 3.5.4 频率对渗硅层相结构的影响 | 第54-55页 |
| 3.6 铌表面熔盐脉冲电沉积渗硅与其它铌表面渗硅工艺的比较 | 第55-57页 |
| 3.7 本章小结 | 第57-60页 |
| 第4章 硅的电化学还原研究 | 第60-81页 |
| 4.1 电化学还原基本原理 | 第60-67页 |
| 4.1.1 循环伏安（CV） | 第60-62页 |
| 4.1.2 计时电位（CP） | 第62-65页 |
| 4.1.3 计时电流（CA） | 第65-67页 |
| 4.2 Si（IV）在Mo电极上的电化学还原研究 | 第67-73页 |
| 4.2.1 循环伏安 | 第68-70页 |
| 4.2.2 计时电位 | 第70-72页 |
| 4.2.3 计时电流 | 第72-73页 |
| 4.3 Si（IV）在Nb电极上的电化学还原研究 | 第73-79页 |
| 4.3.1 循环伏安 | 第73-75页 |
| 4.3.2 计时电位 | 第75-77页 |
| 4.3.3 计时电流 | 第77-78页 |
| 4.3.4 电沉积验证 | 第78-79页 |
| 4.4 本章小结 | 第79-81页 |
| 结论 | 第81-82页 |
| 参考文献 | 第82-93页 |
| 致谢 | 第93-94页 |
| 导师简介 | 第94-95页 |
| 作者简介 | 第95-96页 |
| 学位论文数据集 | 第96页 |
