| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 氧化钨的研究现状 | 第11-13页 |
| 1.2.1 氧化钨的基本性质 | 第11-12页 |
| 1.2.2 氧化钨的应用研究现状 | 第12-13页 |
| 1.3 有序结构纳米材料的制备方法 | 第13-15页 |
| 1.3.1 纳米材料制备方法 | 第13-15页 |
| 1.3.2 有序结构制备方法 | 第15页 |
| 1.4 SERS简介 | 第15-18页 |
| 1.4.1 拉曼散射的基本原理 | 第15-16页 |
| 1.4.2 SERS机理 | 第16-17页 |
| 1.4.3 SERS的应用 | 第17-18页 |
| 1.5 论文研究内容及意义 | 第18-19页 |
| 第二章 二维氧化钨有序结构纳米薄膜的构筑 | 第19-27页 |
| 2.1 引言 | 第19页 |
| 2.2 二维氧化钨有序结构纳米薄膜的制备 | 第19-22页 |
| 2.2.1 实验仪器和试剂 | 第20页 |
| 2.2.2 制备实验 | 第20-22页 |
| 2.3 二维氧化钨有序结构纳米薄膜的表征 | 第22-26页 |
| 2.3.1 溅射厚度对二维氧化钨有序结构纳米薄膜形貌的影响 | 第22-24页 |
| 2.3.2 制备的氧化钨纳米薄膜材料的XRD表征 | 第24页 |
| 2.3.3 制备的氧化钨纳米薄膜材料的Raman表征 | 第24-26页 |
| 2.4 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 热处理调控二维氧化钨有序结构纳米薄膜氧空位以及SERS研究 | 第27-43页 |
| 3.1 引言 | 第27-28页 |
| 3.2 二维氧化钨有序结构纳米薄膜的热处理实验 | 第28-29页 |
| 3.3 退火气氛对二维氧化钨有序结构纳米薄膜氧空位以及SERS影响的研究 | 第29-34页 |
| 3.3.1 退火气氛对二维氧化钨有序结构纳米薄膜形貌影响的SEM表征 | 第29-30页 |
| 3.3.2 退火气氛对氧化钨纳米薄膜样品晶格结构的影响 | 第30-31页 |
| 3.3.3 退火气氛对氧化钨纳米薄膜样品光学性质的影响 | 第31-32页 |
| 3.3.4 退火气氛对氧化钨纳米薄膜钨氧含量的影响 | 第32-33页 |
| 3.3.5 退火气氛对氧化钨纳米薄膜SERS的影响 | 第33-34页 |
| 3.4 晶体结构对二维氧化钨有序结构纳米薄膜氧空位以及SERS影响的研究 | 第34-36页 |
| 3.4.1 不同温度下二维氧化钨有序结构纳米薄膜的晶体结构 | 第34-35页 |
| 3.4.2 晶体结构对二维氧化钨有序结构纳米薄膜SERS的影响 | 第35-36页 |
| 3.5 表面结构对二维氧化钨有序结构纳米薄膜SERS的影响 | 第36-37页 |
| 3.6 退火时间对二维氧化钨有序结构纳米薄膜氧空位数量和SERS的影响 | 第37-38页 |
| 3.7 二维氧化钨有序结构纳米薄膜SERS灵敏度研究 | 第38页 |
| 3.8 二维氧化钨有序结构纳米薄膜SERS的理论分析 | 第38-41页 |
| 3.9 本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 氢等离子体处理对二维氧化钨有序结构纳米薄膜表面改性及SERS研究 | 第43-49页 |
| 4.1 引言 | 第43-44页 |
| 4.2 氢等离子体改性实验 | 第44-45页 |
| 4.3 氢等离子体改性对二维氧化钨有序结构纳米薄膜形貌的影响 | 第45页 |
| 4.4 氢等离子体改性对二维氧化钨有序结构纳米薄膜SERS的影响 | 第45-46页 |
| 4.5 氢等离子体改性与热处理对二维氧化钨有序结构纳米薄膜SERS的影响 | 第46-47页 |
| 4.6 本章小结 | 第47-49页 |
| 第五章 总结与展望 | 第49-51页 |
| 5.1 论文总结 | 第49页 |
| 5.2 展望 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 作者简介与硕士期间的成果 | 第58页 |
