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离子束溅射高性能SiO2薄膜特性研究

摘要第4-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第13-32页
    1.1 课题背景及研究的目的和意义第13-15页
    1.2 离子束溅射技术的研究进展第15-20页
        1.2.1 溅射技术的发展历程第16-18页
        1.2.2 离子束溅射技术的发展现状及趋势第18-19页
        1.2.3 离子束溅射技术在光学薄膜中的应用第19-20页
    1.3 SiO_2薄膜的研究进展第20-30页
        1.3.1 SiO_2薄膜特性第21-26页
        1.3.2 SiO_2薄膜特性与制备技术的关联性第26-29页
        1.3.3 SiO_2薄膜在使役条件下的特性第29-30页
    1.4 本文的主要研究内容第30-32页
第2章 离子束溅射SiO_2薄膜制备及表征第32-44页
    2.1 引言第32页
    2.2 离子束溅射SiO_2制备技术第32-34页
    2.3 基底和SiO_2材料的基本特性第34-38页
        2.3.1 基底的选择第34-36页
        2.3.2 SiO_2材料的基本特性第36-38页
    2.4 SiO_2薄膜特性的表征方法第38-43页
        2.4.1 光学特性的表征方法第38-39页
        2.4.2 应力特性的表征方法第39-40页
        2.4.3 热力学特性的表征方法第40-43页
    2.5 本章小结第43-44页
第3章 离子束溅射SiO_2薄膜光学特性研究第44-67页
    3.1 引言第44页
    3.2 SiO_2薄膜的折射率特性第44-60页
        3.2.1 界面及折射率梯度结构物理模型第44-47页
        3.2.2 热处理对折射率的影响第47-57页
        3.2.3 折射率时效的蠕变规律第57-58页
        3.2.4 折射率的梯度特性第58-60页
    3.3 SiO_2薄膜的吸收特性第60-65页
        3.3.1 弱吸收特性第61-63页
        3.3.2 紫外吸收特性第63-65页
    3.4 本章小结第65-67页
第4章 离子束溅射SiO_2薄膜热力学特性研究第67-80页
    4.1 引言第67页
    4.2 SiO_2薄膜的应力特性研究第67-75页
        4.2.1 应力产生的机理第67-68页
        4.2.2 应力时效特性及改性-应力关系第68-71页
        4.2.3 应力、密度和光学特性的关联性第71-75页
    4.3 SiO_2薄膜的弹性模量和硬度第75-77页
    4.4 SiO_2薄膜的杨氏模量、膨胀系数和泊松比第77-79页
    4.5 本章小结第79-80页
第5章 离子束溅射SiO_2薄膜微结构特性研究第80-108页
    5.1 引言第80页
    5.2 SiO_2薄膜表面形貌特性第80-83页
    5.3 SiO_2薄膜分子结构特性研究第83-103页
        5.3.1 SiO_2分子结构的红外表征方法第83-87页
        5.3.2 SiO_2薄膜的红外吸收光谱第87-92页
        5.3.3 后处理对SiO_2薄膜结构的影响第92-98页
        5.3.4 SiO_2薄膜分层红外吸收光谱第98-103页
    5.4 SiO_2薄膜无定形结构特性研究第103-106页
        5.4.1 无定形结构的分析方法第103-104页
        5.4.2 热处理对无定形结构特性的影响第104-106页
    5.5 本章小结第106-108页
第6章 SiO_2薄膜的应用研究第108-120页
    6.1 引言第108页
    6.2 SiO_2薄膜在低损耗薄膜中的应用第108-116页
        6.2.1 多层膜的结构设计第109-110页
        6.2.2 多层膜的基本特性第110-111页
        6.2.3 减反膜时效特性研究第111-113页
        6.2.4 热处理对高反膜基本特性的影响第113-116页
    6.3 SiO_2薄膜在等离子放电环境中的应用第116-119页
        6.3.1 环形等离子放电腔的设计第116页
        6.3.2 等离子体对多层膜特性的影响第116-119页
    6.4 本章小结第119-120页
结论第120-122页
参考文献第122-131页
攻读博士学位期间发表的论文及其它成果第131-134页
致谢第134-135页
个人简历第135页

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