摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第13-32页 |
1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第13-15页 |
1.2 离子束溅射技术的研究进展 | 第15-20页 |
1.2.1 溅射技术的发展历程 | 第16-18页 |
1.2.2 离子束溅射技术的发展现状及趋势 | 第18-19页 |
1.2.3 离子束溅射技术在光学薄膜中的应用 | 第19-20页 |
1.3 SiO_2薄膜的研究进展 | 第20-30页 |
1.3.1 SiO_2薄膜特性 | 第21-26页 |
1.3.2 SiO_2薄膜特性与制备技术的关联性 | 第26-29页 |
1.3.3 SiO_2薄膜在使役条件下的特性 | 第29-30页 |
1.4 本文的主要研究内容 | 第30-32页 |
第2章 离子束溅射SiO_2薄膜制备及表征 | 第32-44页 |
2.1 引言 | 第32页 |
2.2 离子束溅射SiO_2制备技术 | 第32-34页 |
2.3 基底和SiO_2材料的基本特性 | 第34-38页 |
2.3.1 基底的选择 | 第34-36页 |
2.3.2 SiO_2材料的基本特性 | 第36-38页 |
2.4 SiO_2薄膜特性的表征方法 | 第38-43页 |
2.4.1 光学特性的表征方法 | 第38-39页 |
2.4.2 应力特性的表征方法 | 第39-40页 |
2.4.3 热力学特性的表征方法 | 第40-43页 |
2.5 本章小结 | 第43-44页 |
第3章 离子束溅射SiO_2薄膜光学特性研究 | 第44-67页 |
3.1 引言 | 第44页 |
3.2 SiO_2薄膜的折射率特性 | 第44-60页 |
3.2.1 界面及折射率梯度结构物理模型 | 第44-47页 |
3.2.2 热处理对折射率的影响 | 第47-57页 |
3.2.3 折射率时效的蠕变规律 | 第57-58页 |
3.2.4 折射率的梯度特性 | 第58-60页 |
3.3 SiO_2薄膜的吸收特性 | 第60-65页 |
3.3.1 弱吸收特性 | 第61-63页 |
3.3.2 紫外吸收特性 | 第63-65页 |
3.4 本章小结 | 第65-67页 |
第4章 离子束溅射SiO_2薄膜热力学特性研究 | 第67-80页 |
4.1 引言 | 第67页 |
4.2 SiO_2薄膜的应力特性研究 | 第67-75页 |
4.2.1 应力产生的机理 | 第67-68页 |
4.2.2 应力时效特性及改性-应力关系 | 第68-71页 |
4.2.3 应力、密度和光学特性的关联性 | 第71-75页 |
4.3 SiO_2薄膜的弹性模量和硬度 | 第75-77页 |
4.4 SiO_2薄膜的杨氏模量、膨胀系数和泊松比 | 第77-79页 |
4.5 本章小结 | 第79-80页 |
第5章 离子束溅射SiO_2薄膜微结构特性研究 | 第80-108页 |
5.1 引言 | 第80页 |
5.2 SiO_2薄膜表面形貌特性 | 第80-83页 |
5.3 SiO_2薄膜分子结构特性研究 | 第83-103页 |
5.3.1 SiO_2分子结构的红外表征方法 | 第83-87页 |
5.3.2 SiO_2薄膜的红外吸收光谱 | 第87-92页 |
5.3.3 后处理对SiO_2薄膜结构的影响 | 第92-98页 |
5.3.4 SiO_2薄膜分层红外吸收光谱 | 第98-103页 |
5.4 SiO_2薄膜无定形结构特性研究 | 第103-106页 |
5.4.1 无定形结构的分析方法 | 第103-104页 |
5.4.2 热处理对无定形结构特性的影响 | 第104-106页 |
5.5 本章小结 | 第106-108页 |
第6章 SiO_2薄膜的应用研究 | 第108-120页 |
6.1 引言 | 第108页 |
6.2 SiO_2薄膜在低损耗薄膜中的应用 | 第108-116页 |
6.2.1 多层膜的结构设计 | 第109-110页 |
6.2.2 多层膜的基本特性 | 第110-111页 |
6.2.3 减反膜时效特性研究 | 第111-113页 |
6.2.4 热处理对高反膜基本特性的影响 | 第113-116页 |
6.3 SiO_2薄膜在等离子放电环境中的应用 | 第116-119页 |
6.3.1 环形等离子放电腔的设计 | 第116页 |
6.3.2 等离子体对多层膜特性的影响 | 第116-119页 |
6.4 本章小结 | 第119-120页 |
结论 | 第120-122页 |
参考文献 | 第122-131页 |
攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第131-134页 |
致谢 | 第134-135页 |
个人简历 | 第135页 |