| 中文摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 稀磁半导体介绍 | 第9-14页 |
| 1.1.1 稀磁半导体的研究背景 | 第9页 |
| 1.1.2 稀磁半导体的发展过程 | 第9-11页 |
| 1.1.3 d~0铁磁性机制 | 第11-14页 |
| 1.2 SnO_2基稀磁材料的研究现状 | 第14-19页 |
| 1.2.1 SnO_2材料简介 | 第14页 |
| 1.2.2 SnO_2基稀磁材料的研究现状 | 第14-19页 |
| 1.3 选题依据及本论文的研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 样品的制备方法和表征 | 第20-27页 |
| 2.1 薄膜样品的制备 | 第20-22页 |
| 2.1.1 磁控溅射技术 | 第20页 |
| 2.1.2 Li掺杂SnO_2薄膜样品的制备 | 第20-22页 |
| 2.2 纳米颗粒样品的制备 | 第22-23页 |
| 2.2.1 溶胶凝胶法 | 第22页 |
| 2.2.2 Al掺杂SnO_2纳米颗粒的制备 | 第22-23页 |
| 2.3 结构表征与物性测量 | 第23-27页 |
| 2.3.1 表面形貌测试仪(台阶仪) | 第23页 |
| 2.3.2 原子力显微镜(AFM) | 第23页 |
| 2.3.3 透射电镜(TEM) | 第23-24页 |
| 2.3.4 X射线衍射仪(XRD) | 第24页 |
| 2.3.5 X射线光电子能谱(XPS) | 第24页 |
| 2.3.6 紫外-可见分光光度计 | 第24-25页 |
| 2.3.7 光致发光谱(PL) | 第25页 |
| 2.3.8 霍尔效应仪 | 第25-26页 |
| 2.3.9 磁学测量系统(MPMS) | 第26-27页 |
| 第三章 Li掺杂SnO_2薄膜的结构与特性研究 | 第27-41页 |
| 3.1 外延Li掺杂SnO_2薄膜样品的制备 | 第27页 |
| 3.2 蓝宝石基底的选取及介绍 | 第27-28页 |
| 3.3 外延Li掺杂SnO_2薄膜的结构 | 第28-31页 |
| 3.4 外延Li掺杂SnO_2薄膜的XPS成分分析 | 第31-32页 |
| 3.5 外延Li掺杂SnO_2薄膜的电学性质 | 第32-33页 |
| 3.6 外延Li掺杂SnO_2薄膜的光学性质 | 第33-36页 |
| 3.7 外延Li掺杂SnO_2薄膜的磁学性质 | 第36-39页 |
| 3.8 外延Li掺杂SnO_2薄膜的铁磁性机制 | 第39-40页 |
| 3.9 本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 Al掺杂SnO_2纳米颗粒的结构和特性研究 | 第41-55页 |
| 4.1 Al掺杂SnO_2纳米颗粒的结构和形貌 | 第41-44页 |
| 4.2 Al掺杂SnO_2纳米颗粒的XPS成分分析 | 第44-46页 |
| 4.3 Al掺杂SnO_2纳米颗粒的光学性质 | 第46-50页 |
| 4.4 Al掺杂SnO_2纳米颗粒的磁性 | 第50-52页 |
| 4.5 Al掺杂SnO_2纳米颗粒的铁磁性机制 | 第52-53页 |
| 4.6 本章小结 | 第53-55页 |
| 第五章 结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-63页 |
| 硕士在读期间已发表和已完成的论文 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
