| 摘要 | 第3-6页 |
| ABSTRACT | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 金刚石的性质 | 第13-15页 |
| 1.2.1 金刚石的结构与性质 | 第13-14页 |
| 1.2.2 金刚石的应用 | 第14-15页 |
| 1.3 纳米金刚石薄膜的研究进展 | 第15-20页 |
| 1.3.1 纳米金刚石薄膜与超纳米金刚石薄膜 | 第15-16页 |
| 1.3.2 纳米金刚石薄膜的制备 | 第16-17页 |
| 1.3.3 纳米金刚石薄膜的性质与应用 | 第17-20页 |
| 1.4 金刚石薄膜的离子注入 | 第20-21页 |
| 1.4.1 传统的离子注入技术 | 第20页 |
| 1.4.2 浸没式离子注入技术 | 第20-21页 |
| 1.5 问题提出及本文研究的主要内容 | 第21-22页 |
| 第二章 氧离子注入纳米金刚石薄膜的微结构和电化学性能研究 | 第22-41页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 实验 | 第22-26页 |
| 2.2.1 本征NCD薄膜的制备 | 第22-23页 |
| 2.2.2 NCD薄膜的氧离子注入和退火处理 | 第23-24页 |
| 2.2.3 NCD薄膜电极的制备及仪器药品 | 第24-25页 |
| 2.2.4 电化学性能测试方法 | 第25-26页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第26-40页 |
| 2.3.1 电化学测试 | 第26-35页 |
| 2.3.2 红外光谱表征 | 第35-36页 |
| 2.3.3 Raman光谱表征 | 第36-40页 |
| 2.4 本章小结 | 第40-41页 |
| 第三章 磷离子注入纳米金刚石薄膜的微结构和电化学性能研究 | 第41-53页 |
| 3.1 引言 | 第41页 |
| 3.2 实验 | 第41-42页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第42-52页 |
| 3.3.1 电化学性能测试 | 第42-49页 |
| 3.3.2 Raman光谱表征 | 第49-52页 |
| 3.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 浸没式氧离子注入NCD薄膜的微结构和电化学性能研究 | 第53-70页 |
| 4.1 引言 | 第53页 |
| 4.2 实验 | 第53-54页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第54-69页 |
| 4.3.1 电化学性能测试 | 第54-62页 |
| 4.3.2 Raman光谱表征 | 第62-66页 |
| 4.3.3 XPS 表征 | 第66-68页 |
| 4.3.4 Hall效应测试 | 第68-69页 |
| 4.4 本章小结 | 第69-70页 |
| 第五章 结论 | 第70-72页 |
| 本文创新点 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文及成果 | 第83页 |
