| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 磁控溅射镀膜技术 | 第12-17页 |
| 1.2.1 磁控溅射镀膜过程 | 第12-13页 |
| 1.2.2 反应磁控溅射镀膜特点 | 第13-14页 |
| 1.2.3 等离子体诊断技术 | 第14-15页 |
| 1.2.4 光谱法对等离子体的诊断及其应用 | 第15-17页 |
| 1.3 氧化锌的基本性质 | 第17-19页 |
| 1.3.1 氧化锌的结构特性 | 第17页 |
| 1.3.2 氧化锌的光电特性 | 第17-18页 |
| 1.3.3 氧化锌的其他性质 | 第18-19页 |
| 1.4 氧化锌薄膜的应用 | 第19-20页 |
| 1.4.1 紫外探测器 | 第19-20页 |
| 1.4.2 压电器件 | 第20页 |
| 1.4.3 透明电极 | 第20页 |
| 1.5 课题研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验仪器设备及其原理 | 第22-38页 |
| 2.1 反应溅射镀膜系统 | 第22-26页 |
| 2.1.1 真空抽气系统 | 第22-24页 |
| 2.1.2 溅射镀膜室 | 第24-25页 |
| 2.1.3 检测组件 | 第25-26页 |
| 2.2 等离子体发射谱测量系统 | 第26-32页 |
| 2.2.1 光纤探头与传导光纤 | 第27-28页 |
| 2.2.2 EPP2000型光谱仪 | 第28-30页 |
| 2.2.3 光谱法检测理论依据 | 第30-32页 |
| 2.3 薄膜表征设备 | 第32-38页 |
| 2.3.1 表面形貌的分析 | 第32-33页 |
| 2.3.2 晶体结构的分析 | 第33-34页 |
| 2.3.3 润湿性的分析 | 第34-35页 |
| 2.3.4 电学性能的分析 | 第35页 |
| 2.3.5 光学性能的分析 | 第35-38页 |
| 第3章 ZnO薄膜沉积中工艺参数的测定 | 第38-54页 |
| 3.1 迟滞现象 | 第38-39页 |
| 3.2 沉积ZnO薄膜的迟滞曲线的绘制 | 第39-40页 |
| 3.3 光谱法对工艺参数的实验优化 | 第40-52页 |
| 3.3.1 影响薄膜沉积的工艺参数 | 第40-41页 |
| 3.3.2 功率对等离子体特征谱线强度影响的实验研究 | 第41-43页 |
| 3.3.3 工作真空度对等离子体特征谱线强度影响的实验研究 | 第43-45页 |
| 3.3.4 工作气体流量对等离子体特征谱线强度影响的实验研究 | 第45-47页 |
| 3.3.5 等离子体中Zn元素谱线最强参数的确定 | 第47-49页 |
| 3.3.6 在优化参数下绘制迟滞曲线 | 第49-52页 |
| 3.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 第4章 薄膜的制备及其性质研究 | 第54-82页 |
| 4.1 薄膜的制备 | 第54-56页 |
| 4.1.1 选择实验材料 | 第54页 |
| 4.1.2 清洗基片 | 第54页 |
| 4.1.3 清洁靶材 | 第54-55页 |
| 4.1.4 安装基片和靶材 | 第55页 |
| 4.1.5 制备薄膜 | 第55-56页 |
| 4.2 薄膜的表征 | 第56-80页 |
| 4.2.1 薄膜结构分析 | 第57-67页 |
| 4.2.2 表面形貌与成分分析 | 第67-72页 |
| 4.2.3 电学特性研究 | 第72-75页 |
| 4.2.4 光学性质研究 | 第75-77页 |
| 4.2.5 润湿性研究 | 第77-80页 |
| 4.3 本章小结 | 第80-82页 |
| 第5章 结论与展望 | 第82-84页 |
| 5.1 结论 | 第82页 |
| 5.2 展望 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-90页 |
| 致谢 | 第90页 |
