| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 注释表 | 第12-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-22页 |
| 1.1 引言 | 第13页 |
| 1.2 非晶碳氮薄膜的研究现状 | 第13-16页 |
| 1.3 非晶碳氮膜的制备方法 | 第16-19页 |
| 1.3.1 物理气相沉积技术 | 第16-18页 |
| 1.3.2 化学气相沉积技术 | 第18-19页 |
| 1.4 非晶碳氮薄膜的性能与应用 | 第19-21页 |
| 1.4.1 机械性能及其应用 | 第19-20页 |
| 1.4.2 电学、光学性能及其应用 | 第20页 |
| 1.4.3 生物医学特性及其应用 | 第20-21页 |
| 1.5 本文的研究意义及内容 | 第21-22页 |
| 第二章 N_2、N原子及CN基团吸附性能的计算 | 第22-37页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 第一性原理计算基本介绍 | 第22-23页 |
| 2.3 吸附模型的建立及计算过程 | 第23-25页 |
| 2.4 N、N_2及CN基团在Si(10 0)表面的吸附计算 | 第25-30页 |
| 2.4.1 吸附能计算 | 第25-26页 |
| 2.4.2 态密度分析 | 第26-30页 |
| 2.5 N、N_2及CN基团在石墨（00 2）表面的吸附计算 | 第30-36页 |
| 2.5.1 吸附能计算 | 第31页 |
| 2.5.2 态密度分析 | 第31-36页 |
| 2.6 本章小结 | 第36-37页 |
| 第三章 非晶碳氮薄膜制备工艺及力学性能的研究 | 第37-61页 |
| 3.1 引言 | 第37页 |
| 3.2 薄膜的制备 | 第37-39页 |
| 3.2.1 实验设备结构及原理 | 第37-38页 |
| 3.2.2 实验样品的制备及表征 | 第38-39页 |
| 3.3 氮气分压对薄膜结构及力学性能的影响 | 第39-50页 |
| 3.3.1 氮气分压对非晶碳氮膜表面形貌的影响 | 第40-42页 |
| 3.3.2 氮气分压对非晶碳氮薄膜Raman光谱的影响 | 第42-43页 |
| 3.3.3 氮气分压对非晶碳氮薄膜XPS谱的影响 | 第43-47页 |
| 3.3.4 氮气分压对非晶碳氮薄膜力学性能的影响 | 第47-50页 |
| 3.4 偏压对非晶碳氮薄膜结构及力学性能的影响 | 第50-55页 |
| 3.4.1 偏压对非晶碳氮薄膜表面形貌的影响 | 第50-52页 |
| 3.4.2 偏压对非晶碳氮薄膜Raman光谱的影响 | 第52-53页 |
| 3.4.3 偏压对非晶碳氮薄膜力学性能的影响 | 第53-55页 |
| 3.5 温度对非晶碳氮薄膜结构及力学性能的影响 | 第55-59页 |
| 3.5.1 温度对非晶碳氮薄膜表面形貌的影响 | 第55-56页 |
| 3.5.2 温度对非晶碳氮薄膜Raman光谱的影响 | 第56-58页 |
| 3.5.3 温度对非晶碳氮薄膜力学性能的影响 | 第58-59页 |
| 3.6 本章小结 | 第59-61页 |
| 第四章 非晶碳氮薄膜的摩擦磨损性能研究 | 第61-73页 |
| 4.1 引言 | 第61页 |
| 4.2 摩擦磨损机理及实验 | 第61-64页 |
| 4.2.1 实验装置及参数 | 第61-62页 |
| 4.2.2 评价指标 | 第62-63页 |
| 4.2.3 摩擦磨损机理 | 第63-64页 |
| 4.3 氮气分压对非晶碳氮薄膜摩擦磨损性能的影响 | 第64-67页 |
| 4.4 基底温度对非晶碳氮薄膜摩擦磨损性能的影响 | 第67-68页 |
| 4.5 摩擦条件对非晶碳氮薄膜摩擦磨损性能的影响 | 第68-72页 |
| 4.5.1 载荷对非晶碳氮薄膜摩擦磨损性能的影响 | 第68-70页 |
| 4.5.2 对磨速度对非晶碳氮薄膜摩擦磨损性能的影响 | 第70-72页 |
| 4.6 本章小结 | 第72-73页 |
| 第五章 总结与展望 | 第73-75页 |
| 5.1 总结 | 第73-74页 |
| 5.2 展望 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-82页 |
| 致谢 | 第82-84页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第84页 |
