磁控溅射制备TiO2薄膜研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-29页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 溅射镀膜技术概述 | 第12-15页 |
| 1.2.1 溅射机理 | 第12-13页 |
| 1.2.2 常用溅射方式 | 第13-15页 |
| 1.3 TRX-3(A)多功能真空离子镀膜机简介 | 第15-16页 |
| 1.4 薄膜生长机理 | 第16-17页 |
| 1.5 TiO_2简介 | 第17-24页 |
| 1.5.1 TiO_2的晶体结构 | 第17-19页 |
| 1.5.2 TiO_2薄膜的制备方法 | 第19-21页 |
| 1.5.3 TiO_2的应用 | 第21-24页 |
| 1.6 TiO_2薄膜的研究现状 | 第24-27页 |
| 1.7 本课题的研究意义及内容 | 第27-29页 |
| 第2章 实验所用设备及工艺 | 第29-35页 |
| 2.1 TiO_2薄膜的制备 | 第29-32页 |
| 2.1.1 制备设备 | 第29页 |
| 2.1.2 实验材料 | 第29页 |
| 2.1.3 试样悬挂布置图简介 | 第29-30页 |
| 2.1.4 基体试样的表面预处理 | 第30-31页 |
| 2.1.5 TiO_2薄膜的制备工艺 | 第31-32页 |
| 2.2 TiO_2薄膜的检测 | 第32-35页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜检测（SEM） | 第32-34页 |
| 2.2.2 X射线衍射仪检测（XRD） | 第34-35页 |
| 第3章 实验结果与分析 | 第35-59页 |
| 3.1 TiO_2薄膜表面特殊点分析 | 第35-42页 |
| 3.2 薄膜表面形貌检测结果与分析 | 第42-47页 |
| 3.3 薄膜表面成分检测结果与分析 | 第47-50页 |
| 3.4 薄膜厚度检测结果与分析 | 第50-52页 |
| 3.5 薄膜结晶性能检测结果与分析 | 第52-59页 |
| 第4章 结论 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
| 在学研究成果 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-67页 |
