| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-23页 |
| 1.1 太阳能电池 | 第12-15页 |
| 1.1.1 太阳能电池的历史 | 第12页 |
| 1.1.2 太阳能电池的发展现状 | 第12-15页 |
| 1.2 CIGS薄膜电池 | 第15-19页 |
| 1.2.1 电池的原理 | 第15-16页 |
| 1.2.2 CIGS薄膜电池的结构 | 第16-18页 |
| 1.2.3 CIGS 薄膜电池的整体结构 | 第18-19页 |
| 1.3 CIGS电池的背电极Mo薄膜 | 第19-20页 |
| 1.4 CIGS电池的缓冲层CdS薄膜 | 第20-22页 |
| 1.4.1 CdS薄膜的晶型结构 | 第20-21页 |
| 1.4.2 CdS薄膜的应用 | 第21-22页 |
| 1.5 本文的主要研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章 磁控溅射法制备单层Mo薄膜 | 第23-53页 |
| 2.1 引言 | 第23页 |
| 2.2 实验部分 | 第23-27页 |
| 2.2.1 实验药品和实验设备 | 第23-24页 |
| 2.2.2 衬底的清洗和单层Mo薄膜的制备 | 第24-26页 |
| 2.2.3 测试与表征 | 第26-27页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第27-51页 |
| 2.3.1 溅射方式：直流溅射(DC)和射频溅射(RF) | 第27-33页 |
| 2.3.2 沉积功率不同对薄膜的影响 | 第33-39页 |
| 2.3.3 沉积气压不同对薄膜的影响 | 第39-46页 |
| 2.3.4 衬底温度不同对薄膜的影响 | 第46-51页 |
| 2.4 本章小结 | 第51-53页 |
| 第三章 磁控溅射法制备多层Mo薄膜 | 第53-65页 |
| 3.1 引言 | 第53页 |
| 3.2 实验部分 | 第53-55页 |
| 3.2.1 磁控溅射的原理 | 第53-55页 |
| 3.2.2 多层Mo薄膜的制备 | 第55页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第55-63页 |
| 3.3.1 双层Mo薄膜的性质 | 第55-59页 |
| 3.3.2 三层Mo薄膜的性质 | 第59-63页 |
| 3.4 本章小结 | 第63-65页 |
| 第四章 化学水浴法制备缓冲层CdS薄膜 | 第65-93页 |
| 4.1 引言 | 第65页 |
| 4.2 实验部分 | 第65-70页 |
| 4.2.1 化学水浴法 | 第65-66页 |
| 4.2.2 反应原理 | 第66-68页 |
| 4.2.3 实验原料与实验设备 | 第68-69页 |
| 4.2.4 CdS薄膜的制备 | 第69-70页 |
| 4.2.5 测试与表征 | 第70页 |
| 4.3 正交试验结果与讨论 | 第70-91页 |
| 4.3.1 正交试验 | 第70-72页 |
| 4.3.2 正交试验结果 | 第72-75页 |
| 4.3.3 NH4Cl的浓度对CdS薄膜性能的影响 | 第75-77页 |
| 4.3.4 SC(NH2)2 的浓度对CdS薄膜性能的影响 | 第77-78页 |
| 4.3.5 不同浓度的CdCl2对CdS薄膜性能的影响 | 第78-81页 |
| 4.3.6 不同的水浴温度对CdS薄膜性能的影响 | 第81-84页 |
| 4.3.7 不同沉积时间对CdS薄膜性能的影响 | 第84-86页 |
| 4.3.8 不同的氨水用量对CdS薄膜性能的影响 | 第86-88页 |
| 4.3.9 退火条件对CdS薄膜性能的影响 | 第88-91页 |
| 4.4 本章小结 | 第91-93页 |
| 结论 | 第93-95页 |
| 主要研究成果 | 第93-94页 |
| 论文创新之处 | 第94页 |
| 对未来研究工作的建议 | 第94-95页 |
| 参考文献 | 第95-100页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第100-101页 |
| 致谢 | 第101-102页 |
| 附件 | 第102页 |
