| 摘要 | 第3-5页 |
| 英文摘要 | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 ZnO材料概述 | 第9-13页 |
| 1.1.1 晶体结构 | 第9-10页 |
| 1.1.2 光学性质 | 第10-13页 |
| 1.1.3 ZnO掺杂 | 第13页 |
| 1.2 ZnO纳米结构制备及研究现状 | 第13-16页 |
| 1.3 论文的主要研究内容及结构 | 第16-18页 |
| 参考文献 | 第18-21页 |
| 第二章 ZnO微纳米柱的制备技术与表征手段 | 第21-34页 |
| 2.1 化学气相输运(Chemical VaperTransport) | 第21-22页 |
| 2.2 ZnO微纳米柱的表征手段 | 第22-26页 |
| 2.2.1 扫描电子显微镜 | 第22-23页 |
| 2.2.2 光致发光谱(Photoluminescence) | 第23-24页 |
| 2.2.3 拉曼(Raman)散射 | 第24-25页 |
| 2.2.4 X射线衍射(X-ray diffraction,XRD) | 第25-26页 |
| 2.2.5 台阶仪 | 第26页 |
| 2.3 微加工工艺介绍 | 第26-32页 |
| 2.3.1 样品清洗 | 第26-28页 |
| 2.3.2 等离子体增强化学气相沉积法(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) | 第28页 |
| 2.3.3 光刻 | 第28-31页 |
| 2.3.4 刻蚀 | 第31-32页 |
| 2.3.5 电子束蒸发 | 第32页 |
| 2.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 参考文献 | 第33-34页 |
| 第三章 CVT制备ZnO微纳米柱 | 第34-51页 |
| 3.1 ZnO微纳米柱的生长 | 第34-45页 |
| 3.1.1 实验条件 | 第34-39页 |
| 3.1.2 ZnO微纳米柱的结构 | 第39-40页 |
| 3.1.3 ZnO微纳米柱的光学性质 | 第40-45页 |
| 3.2 ZnO微纳米柱的选择生长 | 第45-48页 |
| 3.3 本章小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-51页 |
| 第四章 ZnO微纳米柱的选择生长 | 第51-72页 |
| 4.1 纳米压印 | 第51-55页 |
| 4.1.1 热塑纳米压印技术(Hot Embossing) | 第51-52页 |
| 4.1.2 紫外固化压印技术(UV Imprinting UV-NIL) | 第52-54页 |
| 4.1.3 微接触纳米压印技术(Micro Contact Printing) | 第54-55页 |
| 4.2 图案化衬底制备 | 第55-58页 |
| 4.3 ZnO微纳米柱的选择生长 | 第58-63页 |
| 4.3.1 形貌结构 | 第58-62页 |
| 4.3.2 光学性质 | 第62-63页 |
| 4.4 ZnO微纳米柱光学性质的各向异性与杂质分布 | 第63-69页 |
| 4.5 本章小结 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-72页 |
| 第五章 结论 | 第72-74页 |
| 5.1 论文总结 | 第72-73页 |
| 5.2 未来工作展望 | 第73-74页 |
| 已发表论文 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
