| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 引言 | 第9-20页 |
| 1.1 热释光发光材料 | 第9-17页 |
| 1.1.1 热释光发光 | 第9页 |
| 1.1.2 热释光机理分析 | 第9-13页 |
| 1.1.3 热释光分析方法 | 第13-15页 |
| 1.1.4 热释光技术的应用 | 第15-16页 |
| 1.1.5 热释光剂量学 | 第16-17页 |
| 1.2 铽掺硅酸镁发光材料的制备方法简介 | 第17-19页 |
| 1.3 选题意义 | 第19-20页 |
| 第2章 研究内容及研究方法 | 第20-26页 |
| 2.1 研究内容 | 第20页 |
| 2.2 研究方法 | 第20-24页 |
| 2.2.1 实验原料 | 第20-21页 |
| 2.2.2 样品制备工艺 | 第21-23页 |
| 2.2.3 样品表征方法 | 第23-24页 |
| 2.3 本研究的创新点 | 第24-26页 |
| 第3章 实验结果与讨论 | 第26-44页 |
| 3.1 煅烧温度对Mg_2SiO_4晶体的影响 | 第26-27页 |
| 3.1.1 X射线衍射结果分析与讨论 | 第26-27页 |
| 3.2 保温时间对Mg_2SiO_4晶体的影响 | 第27-31页 |
| 3.2.1 X射线衍射结果分析与讨论 | 第27页 |
| 3.2.2 热释光结果分析与讨论 | 第27-31页 |
| 3.3 铽含量对Mg_2SiO_4晶体的影响 | 第31-39页 |
| 3.3.1 X射线衍射结果分析与讨论 | 第31-32页 |
| 3.3.2 扫描电镜结果分析与讨论 | 第32页 |
| 3.3.3 热释光结果分析与讨论 | 第32-39页 |
| 3.4 Mg_2SiO_4: Tb的荧光光谱（PL） | 第39页 |
| 3.5 Mg_2SiO_4: Tb光释光（OSL） | 第39-40页 |
| 3.6 Mg_2SiO_4: Tb的拟合参数分析 | 第40-41页 |
| 3.7 Mg_2SiO_4: Tb与几种常见的热释光剂量材料的对比分析 | 第41-43页 |
| 3.8 小结 | 第43-44页 |
| 第4章 剂量片的制备工艺及性能测试 | 第44-52页 |
| 4.1 Mg_2SiO_4: Tb剂量片XRD测试 | 第45-46页 |
| 4.2 Mg_2SiO_4: Tb剂量片热释光测试 | 第46页 |
| 4.3 样品性能测试 | 第46-50页 |
| 4.3.1 退火条件和重复性测试 | 第46-48页 |
| 4.3.2 剂量响应测试 | 第48-49页 |
| 4.3.3 Mg_2SiO_4: Tb剂量片与几种常见的热释光剂量材料的对比分析 | 第49-50页 |
| 4.4 荧光光谱（PL）测试 | 第50-51页 |
| 4.5 光释光（OSL）测试 | 第51页 |
| 4.6 小结 | 第51-52页 |
| 第5章 结论 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 附录 | 第58-59页 |
