回旋管电子枪设计与研究
摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-11页 |
第一章 绪论 | 第11-23页 |
·回旋管的发展概况及工作机理 | 第11-15页 |
·回旋管的应用 | 第15-18页 |
·磁控注入电子枪的发展概况及工作原理 | 第18-22页 |
·学位论文的主要工作与贡献 | 第22-23页 |
第二章 强流电子光学系统基本理论 | 第23-37页 |
·电子光学系统的基本理论与分析 | 第23-25页 |
·轴对称静电场 | 第23-24页 |
·轴对称静磁场 | 第24-25页 |
·电子光学系统的数值分析 | 第25-31页 |
·电位的求解 | 第25-27页 |
·边界条件的处理 | 第27-28页 |
·线圈磁场模拟理论 | 第28-29页 |
·正交场中空间电荷流的严格解析解 | 第29-31页 |
·电子枪场方程及电子注数字模拟方程 | 第31-32页 |
·阴极半径和引导中心半径 | 第32-33页 |
·软件模拟方法介绍 | 第33-37页 |
·时域有限差分法 | 第33-37页 |
第三章 双阳极磁控注入电子枪的设计与优化 | 第37-50页 |
·回旋管电子光学系统的基本要求 | 第37-38页 |
·磁控注入枪中电子运动理论的分析 | 第38-39页 |
·电子注性能参数分析 | 第39-44页 |
·双阳极磁控注入枪的优化设计 | 第44-48页 |
·170GHz 双阳极磁控注入枪的优化设计 | 第44页 |
·多种因素对电子注质量的影响 | 第44-48页 |
·优化结果 | 第48-50页 |
第四章 单阳极磁控注入电子枪的设计与优化 | 第50-61页 |
·94GHZ 单阳极磁控注入枪的优化设计 | 第50-59页 |
·多种因素对电子注质量的影响 | 第52-59页 |
·优化结果 | 第59-61页 |
第五章 总结 | 第61-62页 |
致谢 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-66页 |
硕期间取得的研究成果 | 第66-67页 |