| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-26页 |
| ·引言 | 第13-14页 |
| ·多晶硅薄膜概述 | 第14-18页 |
| ·多晶硅薄膜性质 | 第14-15页 |
| ·多晶硅薄膜制备方法 | 第15-18页 |
| ·铝诱导多晶硅薄膜综述 | 第18-25页 |
| ·铝诱导多晶硅薄膜国内外研究进展 | 第20-24页 |
| ·铝诱导多晶硅应用于外延及太阳能电池的研究进展 | 第24-25页 |
| ·本课题的研究思路与内容 | 第25-26页 |
| 第二章 薄膜制备与表征 | 第26-40页 |
| ·实验仪器与原料 | 第26页 |
| ·薄膜制备 | 第26-33页 |
| ·衬底清洗 | 第26-27页 |
| ·热丝化学气相沉积法制备硅薄膜 | 第27-29页 |
| ·磁控溅射制备铝薄膜 | 第29-31页 |
| ·诱导退火 | 第31-32页 |
| ·铝腐蚀 | 第32-33页 |
| ·薄膜性能表征技术 | 第33-40页 |
| ·透-反射光学显微镜 | 第33-34页 |
| ·台阶仪 | 第34-35页 |
| ·X 射线衍射技术(XRD) | 第35-36页 |
| ·激光拉曼散射光谱（Raman） | 第36-37页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第37页 |
| ·四探针电阻率/方阻测试仪 | 第37-39页 |
| ·紫外-可见光谱仪 | 第39-40页 |
| 第三章 铝诱导纳米硅制备多晶硅薄膜的研究 | 第40-54页 |
| ·引言 | 第40-41页 |
| ·实验方法 | 第41-42页 |
| ·诱导温度的影响 | 第42-47页 |
| ·表面形貌分析 | 第42-44页 |
| ·晶体结构分析 | 第44页 |
| ·结晶性能分析 | 第44-45页 |
| ·电学性能分析 | 第45-46页 |
| ·光学性能分析 | 第46-47页 |
| ·诱导时间的影响 | 第47-48页 |
| ·表面形貌分析 | 第47页 |
| ·电学性能分析 | 第47-48页 |
| ·硅铝厚度比的影响 | 第48-51页 |
| ·表面形貌分析 | 第48-49页 |
| ·结晶性能分析 | 第49-50页 |
| ·电学性能分析 | 第50-51页 |
| ·铝诱导纳米硅与铝诱导非晶硅的结果对比 | 第51-52页 |
| ·表面形貌对比分析 | 第51-52页 |
| ·机理分析 | 第52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 等离子体辅助铝诱导纳米硅制备多晶硅薄膜的研究 | 第54-72页 |
| ·引言 | 第54-55页 |
| ·实验方法 | 第55-56页 |
| ·诱导温度影响 | 第56-60页 |
| ·表面形貌分析 | 第56-57页 |
| ·晶体结构分析 | 第57-58页 |
| ·结晶性能分析 | 第58-59页 |
| ·电学性能分析 | 第59-60页 |
| ·诱导时间影响 | 第60-66页 |
| ·表面形貌分析 | 第60-61页 |
| ·结晶性能分析 | 第61-62页 |
| ·晶化率拟合分析 | 第62-65页 |
| ·电学性能研究 | 第65-66页 |
| ·射频功率影响 | 第66-69页 |
| ·表面形貌分析 | 第66-67页 |
| ·结晶性能分析 | 第67-68页 |
| ·电学性能分析 | 第68页 |
| ·光学性能分析 | 第68-69页 |
| ·等离子体辅助铝诱导纳米硅与铝诱导非晶硅的结果对比 | 第69-70页 |
| ·表面形貌对比分析 | 第69-70页 |
| ·机理分析 | 第70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 第五章 结论与展望 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第81页 |