| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-24页 |
| ·研究背景及意义 | 第8-9页 |
| ·ZnO的国内外研究现状 | 第9-10页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第10-16页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第10-11页 |
| ·半导体薄膜辐射复合方式 | 第11-13页 |
| ·ZnO晶体的点缺陷及可见光发射机理 | 第13-16页 |
| ·ZnO薄膜的光致紫外发光及禁带宽度调节机理 | 第16-19页 |
| ·ZnO薄膜的光致紫外发光机理 | 第16-17页 |
| ·ZnO薄膜带隙宽度调节机理 | 第17-19页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第19-21页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第19页 |
| ·金属有机物气相沉积(MOCVD) | 第19-20页 |
| ·溅射(Sputter) | 第20页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第20页 |
| ·原子层外延(ALE) | 第20-21页 |
| ·溶胶-凝胶法(sol-gel) | 第21页 |
| ·该论文的主要研究工作 | 第21-24页 |
| 第二章 溶胶-凝胶法制备ZnO薄膜及其正交实验工艺设计 | 第24-36页 |
| ·溶胶-凝胶法概述及ZnO晶体形成机理 | 第24-26页 |
| ·溶胶-凝胶特点及反应机理 | 第24-25页 |
| ·ZnO晶体形成机理 | 第25-26页 |
| ·正交设计相关知识 | 第26-28页 |
| ·因素及水平 | 第26页 |
| ·实验方法综述 | 第26-28页 |
| ·溶胶-凝胶法制备ZnO基掺杂薄膜过程 | 第28-32页 |
| ·ZnO薄膜掺杂类型 | 第28-29页 |
| ·Mg、Mn掺杂ZnO薄膜实验原料选取 | 第29-30页 |
| ·Mg、Mn掺杂ZnO溶胶、凝胶的配置 | 第30页 |
| ·衬底清洗 | 第30页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO、Zn_(1-x)Mn_xO的镀膜 | 第30-32页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO、Zn_(1-x)Mn_xO薄膜的热处理 | 第32页 |
| ·溶胶-凝胶技术制备薄膜的工艺流程 | 第32-33页 |
| ·ZnO薄膜的性能测试 | 第33-35页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第33-34页 |
| ·薄膜的形貌观测(AFM) | 第34页 |
| ·薄膜的光致发光测试(PL) | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的正交设计及分析 | 第36-50页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的正交实验参数设计 | 第36-37页 |
| ·正交表因素及水平选定 | 第36页 |
| ·正交实验表的确定 | 第36-37页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第37-43页 |
| ·样品X射线衍射分析 | 第37-39页 |
| ·正交实验数据分析 | 第39-41页 |
| ·影响因素分析 | 第41-43页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO薄膜形貌分析 | 第43-45页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO薄膜光致发光性能分析 | 第45-47页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO薄膜光致发光图谱分析 | 第45-46页 |
| ·Zn_(1-x)Mg_xO薄膜光致发光数据分析 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-50页 |
| 第四章 Zn_(1-x)Mn_xO薄膜的正交设计及分析 | 第50-62页 |
| ·Zn_(1-x)Mn_xO薄膜的正交实验参数设计 | 第50-51页 |
| ·正交表因素及水平选定 | 第50页 |
| ·正交实验表的确定 | 第50-51页 |
| ·实验结果分析与讨论 | 第51-57页 |
| ·样品X射线衍射分析 | 第51-53页 |
| ·正交实验数据分析 | 第53-55页 |
| ·影响因素分析 | 第55-57页 |
| ·Zn_(1-x)Mn_xO薄膜形貌分析 | 第57-58页 |
| ·Zn_(1-x)Mn_xO薄膜光致发光性能分析 | 第58-60页 |
| ·Zn_(1-x)Mn_xO薄膜光致发光图谱分析 | 第58-59页 |
| ·Zn_(1-x)Mn_xO薄膜光致发光数据分析 | 第59-60页 |
| ·结论 | 第60-62页 |
| 结论 | 第62-64页 |
| 1 工作总结 | 第62页 |
| 2 存在的问题以及今后的工作方向 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 附录 | 第70-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
