| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| ·红外探测技术的发展 | 第8-9页 |
| ·非制冷红外探测技术概述 | 第9-11页 |
| ·氧化钒测辐射热计的研究情况 | 第11页 |
| ·氧化钒测辐射热计的研究情况 | 第11-14页 |
| 第二章 氧化钒性质及薄膜研究概述 | 第14-27页 |
| ·氧化钒的晶体结构 | 第14-16页 |
| ·二氧化钒（VO_2）晶体结构 | 第15页 |
| ·五氧化二钒（V_2O_5）的晶体结构 | 第15-16页 |
| ·氧化钒的特性 | 第16-23页 |
| ·二氧化钒(VO_2)的相变特性 | 第17-18页 |
| ·五氧化二钒（V_2O_5）与三氧化二钒（V_2O_3）的相变特性 | 第18页 |
| ·测辐射热计用氧化钒薄膜的热学模型 | 第18-20页 |
| ·测辐射热计用氧化钒薄膜的光学模型 | 第20-23页 |
| ·氧化钒薄膜性能的改善 | 第23-27页 |
| ·提高氧化钒薄膜电阻温度系数的方法 | 第23-24页 |
| ·提高氧化钒薄膜光透过率的方法 | 第24-25页 |
| ·降低氧化钒薄膜相变温度的方法 | 第25-27页 |
| 第三章 氧化钒薄膜的制备工艺以及表征方法 | 第27-31页 |
| ·氧化钒薄膜的制备方法 | 第27-29页 |
| ·溅射镀膜法 | 第27-28页 |
| ·真空蒸发镀膜法 | 第28页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第28-29页 |
| ·溶胶—凝胶法 | 第29页 |
| ·液相沉积法和热分解法等方法 | 第29页 |
| ·氧化钒薄膜的分析与表征方法 | 第29-31页 |
| 第四章 实验方法与实验准备 | 第31-39页 |
| ·直流对靶反应磁控溅射的原理 | 第31-33页 |
| ·不同衬底的准备 | 第33-36页 |
| ·玻璃衬底的处理 | 第33页 |
| ·Si/SiO_2衬底的准备 | 第33-34页 |
| ·Si_3N_4/SiO_2/Si衬底的准备 | 第34页 |
| ·多孔硅衬底的准备 | 第34-35页 |
| ·电阻-温度特性测试实验 | 第35-36页 |
| ·正交实验法 | 第36-38页 |
| ·实验设备列表 | 第38-39页 |
| 第五章 实验结果分析与讨论 | 第39-59页 |
| ·玻璃衬底上氧化钒薄膜的退火研究 | 第39-45页 |
| ·表面形貌分析 | 第39-41页 |
| ·X射线光电子能谱（XPS）分析 | 第41-42页 |
| ·阻温特性分析 | 第42-45页 |
| ·SiO_2/Si衬底上制备氧化钒薄膜 | 第45-52页 |
| ·最佳制备工艺参数的研究 | 第46-48页 |
| ·SiO_2/Si衬底上氧化钒薄膜的高温退火 | 第48-52页 |
| ·氮化硅衬底上氧化钒薄膜的制备 | 第52-56页 |
| ·多孔硅衬底上氧化钒薄膜制备的初步研究 | 第56-59页 |
| 第六章 实验总结 | 第59-61页 |
| ·实验结论 | 第59-60页 |
| ·未来工作展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |