中文摘要 | 第1-3页 |
ABSTRACT | 第3-7页 |
第一章 绪论 | 第7-26页 |
·单壁碳纳米管 | 第8-11页 |
·单壁碳纳米管的结构 | 第8-10页 |
·单壁碳纳米管的制备方法 | 第10-11页 |
·多壁碳纳米管 | 第11-13页 |
·电弧法制备多壁碳纳米管 | 第11-12页 |
·火焰法制备多壁碳纳米管 | 第12页 |
·催化裂解法制备多壁碳纳米管 | 第12-13页 |
·具有特殊结构的碳纳米管 | 第13-14页 |
·碳纳米管的生长机理 | 第14-17页 |
·电弧法制备碳纳米管的生长机理 | 第14-15页 |
·激光蒸发法制备碳纳米管的生长机理 | 第15-16页 |
·催化热裂解法制备碳纳米管的生长机理 | 第16-17页 |
·定向碳纳米管的制备方法 | 第17-19页 |
·物理方法制备定向碳纳米管 | 第18页 |
·化学方法制备定向碳纳米管 | 第18-19页 |
·碳纳米管的纯化方法 | 第19-21页 |
·液相氧化法 | 第19-20页 |
·气相氧化法 | 第20-21页 |
·其他方法 | 第21页 |
·碳纳米管的性能及其应用前景 | 第21-23页 |
·本文的研究方法 | 第23-26页 |
·改进的浮动催化法简介 | 第23-24页 |
·二茂铁简介 | 第24页 |
·研究思路 | 第24-26页 |
第二章 实验部分 | 第26-35页 |
·实验试剂及仪器 | 第26-27页 |
·实验方法 | 第27-33页 |
·多孔α-Al_2O_3基体的制备 | 第27-28页 |
·碳纳米管的制备 | 第28-30页 |
·Al_2O_3基体及生长有碳纳米管基体的气体渗透性能研究 | 第30-33页 |
·表征方法 | 第33-35页 |
·透射电子显微镜 | 第33-34页 |
·场发射透射电子显微镜 | 第34页 |
·环境扫描电子显微镜 | 第34页 |
·X射线衍射 | 第34页 |
·压汞法 | 第34页 |
·氮吸附法 | 第34-35页 |
第三章 实验结果 | 第35-52页 |
·多孔Al_2O_3基体的表征 | 第35-36页 |
·孔结构表征 | 第35页 |
·相分析 | 第35-36页 |
·形貌分析 | 第36页 |
·碳纳米管的制备结果 | 第36-38页 |
·工艺参数对碳纳米管生长的影响 | 第38-49页 |
·反应温度的影响 | 第38-42页 |
·反应时间的影响 | 第42-45页 |
·乙炔流量的影响 | 第45-46页 |
·催化剂沉积时间的影响 | 第46-47页 |
·催化剂前驱体与基体之间距离的影响 | 第47-49页 |
·多孔基体及生长有碳纳米管基体的气体渗透性能结果 | 第49-52页 |
·基体的气体渗透性能 | 第49-50页 |
·生长碳纳米管后基体的气体渗透性能 | 第50-52页 |
第四章 讨论 | 第52-67页 |
·多孔α-Al_2O_3基体的制备 | 第52-53页 |
·制备碳纳米管过程中若干问题的分析讨论 | 第53-65页 |
·Al_2O_3基体上的碳层脱落现象分析 | 第53-54页 |
·碳纳米管的取向生长问题 | 第54-58页 |
·生成碳纳米管的端头的形貌特征 | 第58-60页 |
·生成碳纳米管的元素分析 | 第60-62页 |
·生成碳纳米管的XRD表征结果与讨论 | 第62-63页 |
·生成碳纳米管的石墨化程度 | 第63页 |
·实验中制备出的几种含量甚少的碳产物 | 第63-65页 |
·渗透实验部分相关问题的讨论 | 第65-67页 |
·两种膜分离机理 | 第65-66页 |
·本文中渗透数据的讨论 | 第66-67页 |
第五章 结论 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-75页 |
附录 | 第75-76页 |
致谢 | 第76页 |