| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| ·本课题的研究意义 | 第9-11页 |
| ·薄膜电磁噪声抑制器的研究现状及展望 | 第11-18页 |
| ·薄膜电磁噪声抑制器的电磁噪声性能影响因素 | 第11-15页 |
| ·薄膜电磁噪声抑制器机理 | 第15-17页 |
| ·磁性薄膜电磁噪声抑制器应用前景 | 第17-18页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 铁磁共振对薄膜电磁噪声抑制器性能影响的仿真分析 | 第20-39页 |
| ·理论基础 | 第20-29页 |
| ·铁磁共振的基本理论 | 第20-25页 |
| ·退磁因子理论 | 第25-27页 |
| ·涡流分析 | 第27-29页 |
| ·薄膜电磁噪声抑制器仿真 | 第29-37页 |
| ·仿真的思路 | 第29-30页 |
| ·薄膜的选取和薄膜铁磁共振计算 | 第30-32页 |
| ·仿真模型的建立 | 第32-34页 |
| ·铁磁共振对薄膜电磁噪声抑制器性能影响仿真 | 第34-37页 |
| ·本章小节 | 第37-39页 |
| 第三章 高频软磁薄膜的制备和表征 | 第39-69页 |
| ·NiZn 铁氧体薄膜 | 第39-55页 |
| ·靶材的制备 | 第39-41页 |
| ·薄膜制备和测试设备 | 第41-42页 |
| ·NiZn 铁氧体薄膜制备工艺研究简介 | 第42-43页 |
| ·退火温度对薄膜特性的影响 | 第43-45页 |
| ·溅射功率对薄膜性能的影响 | 第45-48页 |
| ·基片温度对薄膜特性的影响 | 第48-50页 |
| ·溅射气压对薄膜特性的影响 | 第50-52页 |
| ·基本工艺条件下薄膜磁谱 | 第52页 |
| ·添加缓冲层对薄膜性能的影响 | 第52-55页 |
| ·NiFe/IrMn 铁磁/反铁磁多层薄膜的制备研究 | 第55-67页 |
| ·NiFe/IrMn 薄膜的制备条件 | 第56-57页 |
| ·不同厚度NiFe 合金薄膜的磁性能 | 第57-58页 |
| ·铁磁层厚度对铁磁/反铁磁多层薄膜磁性能影响 | 第58-62页 |
| ·反铁磁层厚度对薄膜磁性能的影响 | 第62-66页 |
| ·多交换偏置场薄膜设计 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 第四章 薄膜电磁噪声抑制器的制作与测试 | 第69-78页 |
| ·测试相关准备工作 | 第69-72页 |
| ·测试平台 | 第69-70页 |
| ·共面波导设计 | 第70-72页 |
| ·不同材料体系电磁噪声抑制性能 | 第72-76页 |
| ·NiZn 铁氧体薄膜材料电磁噪声抑制性能 | 第72-74页 |
| ·NiFe/IrMn 铁磁/反铁磁多层薄膜电磁噪声抑制性能 | 第74-76页 |
| ·本章小结 | 第76-78页 |
| 第五章 结论 | 第78-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-85页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第85-86页 |
