| 第一章 绪论 | 第1-24页 |
| ·研究的背景及意义 | 第10-11页 |
| ·国内外研究现状 | 第11-12页 |
| ·ZnO的结构特性 | 第12-14页 |
| ·ZnO薄膜的性质 | 第14-17页 |
| ·ZnO薄膜的光电特性 | 第14-15页 |
| ·ZnO的气敏特性 | 第15页 |
| ·ZnO薄膜的压电特性 | 第15-16页 |
| ·ZnO的压敏特性 | 第16页 |
| ·ZnO薄膜的磁学特性 | 第16-17页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第17-22页 |
| ·溅射法 | 第17-18页 |
| ·喷雾热分解法 | 第18-19页 |
| ·分子束外延 | 第19-20页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第20-21页 |
| ·金属有机物化学气相沉积 | 第21页 |
| ·原子层外延 | 第21-22页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第22页 |
| ·本文的主要研究工作 | 第22-24页 |
| 第二章 溶胶-凝胶法制备ZnO薄膜的机理及薄膜发光机制 | 第24-34页 |
| ·溶胶-凝胶法制备ZnO薄膜的机理 | 第24-29页 |
| ·溶胶-凝胶法的特点 | 第24-25页 |
| ·溶胶-凝胶法制备薄膜的机理 | 第25-26页 |
| ·ZnO薄膜的形成机理 | 第26-28页 |
| ·ZnO凝胶的热分析 | 第28-29页 |
| ·ZnO薄膜的发光机制 | 第29-34页 |
| ·ZnO的谐振腔结构 | 第29-30页 |
| ·ZnO晶体的本征点缺陷 | 第30页 |
| ·薄膜的发光机制 | 第30-34页 |
| 第三章 薄膜制备工艺的设计 | 第34-42页 |
| ·溶胶体系的筛选 | 第34页 |
| ·实验设备 | 第34-35页 |
| ·样品制备过程 | 第35-38页 |
| ·主要原料 | 第35页 |
| ·溶胶的配制 | 第35-36页 |
| ·衬底的清洗 | 第36页 |
| ·甩膜 | 第36页 |
| ·预热处理 | 第36页 |
| ·退火 | 第36-38页 |
| ·性能测试 | 第38-42页 |
| ·薄膜的晶体结构测试 | 第38页 |
| ·薄膜的形貌观测 | 第38-39页 |
| ·薄膜的厚度测试 | 第39页 |
| ·薄膜的透射性能测试 | 第39-41页 |
| ·薄膜的光致发光测试 | 第41-42页 |
| 第四章 薄膜的结构特征分析 | 第42-70页 |
| ·ZnO粉体的结构 | 第42-44页 |
| ·溶胶体系对ZnO薄膜结构的影响 | 第44-49页 |
| ·前驱体浓度对ZnO薄膜结构的影响 | 第44-47页 |
| ·陈化时间对ZnO薄膜结构的影响 | 第47-49页 |
| ·硅衬底上ZnO薄膜的结构分析 | 第49-58页 |
| ·预热处理温度对ZnO薄膜结构的影响 | 第50-52页 |
| ·退火温度对ZnO薄膜结构的影响 | 第52-56页 |
| ·退火时的保温时间对ZnO薄膜结构的影响 | 第56-58页 |
| ·载玻片衬底上ZnO薄膜的结构分析 | 第58-61页 |
| ·影响ZnO薄膜结构的其他因素 | 第61-62页 |
| ·AZO及Mg_xZn_(1-x)O薄膜的结构分析 | 第62-67页 |
| ·掺Al量对AZO薄膜结构的影响 | 第63-64页 |
| ·掺Mg量对Mg_xZn_(1-x)O薄膜结构的影响 | 第64-67页 |
| ·ZnO薄膜的形貌表征 | 第67-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 第五章 薄膜的光学性能分析 | 第70-82页 |
| ·薄膜的光致发光特性 | 第70-77页 |
| ·硅衬底上退火工艺对ZnO薄膜发光的影响 | 第70-72页 |
| ·载玻片衬底上退火温度对ZnO薄膜发光的影响 | 第72-74页 |
| ·掺铝量对AZO薄膜发光的影响 | 第74-75页 |
| ·掺Mg量对Mg_xZnO_(1-x)O薄膜发光的影响 | 第75-76页 |
| ·激发波长对ZnO薄膜发光的影响 | 第76-77页 |
| ·紫外-可见光透射谱 | 第77-79页 |
| ·本章小结 | 第79-82页 |
| 第六章 结论 | 第82-84页 |
| ·工作总结 | 第82-83页 |
| ·存在的问题及以后的研究方向 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-89页 |
| 在读期间发表的论文 | 第89-90页 |
| 致谢 | 第90页 |
