高声速衬底压电薄膜的制备及声表面波器件的研制探索

致谢	第1-7页
<中文摘要>	第7页
<中文关键词>	第7-8页
<英文摘要>	第8-9页
<英文关键词>	第9-10页
第一章  概述	第10-29页
·声表面波技术简介	第10-14页
·ZnO──使用最广泛的压电薄膜材料	第14-21页
·AlN──性能优异的多功能宽禁带半导体材料	第21-25页
·金刚石等高声速材料在SAW领域中的应用	第25-26页
·本论文的主要工作	第26页
<参考文献>	第26-29页
第二章  脉冲激光淀积(PLD)	第29-34页
·PLD原理	第29-31页
·PLD工艺特点	第31-32页
·实验用PLD系统	第32-33页
<参考文献>	第33-34页
第三章  脉冲激光淀积制备ZnO薄膜	第34-62页
·引言	第34页
·ZnO/Si(100)薄膜的脉冲激光淀积	第34-50页
·ZnO/diamond薄膜的脉冲激光淀积	第50-57页
·ZnO/6H-SiC薄膜的脉冲激光淀积	第57-60页
·本章小结	第60-61页
<参考文献>	第61-62页
第四章  利用ZnO缓冲层制备AlN薄膜	第62-71页
·引言	第62-63页
·样品的制备	第63页
·样品的分析测试结果与讨论	第63-68页
·小结	第68-69页
<参考文献>	第69-71页
第五章  薄膜SAW滤波器的研制探索	第71-75页
第六章  结论	第75-77页
附录1──发表文章目录	第77页
附录2──个人简历	第77页