摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-8页 |
第一章 绪论 | 第8-22页 |
·纳米科技的发展概况 | 第8-9页 |
·纳米科技的概念 | 第8页 |
·纳米科技的研究领域 | 第8页 |
·纳米粒子的化学和催化性能 | 第8-9页 |
·纳米科技的发展趋势 | 第9页 |
·纳米TiO_2 光催化剂发展概况 | 第9-14页 |
·纳米TiO_2 光催化材料的基本内涵 | 第9页 |
·TiO_2 光催化剂的结构特征 | 第9-10页 |
·TiO_2 的理化性质 | 第10页 |
·TiO_2 半导体的能带结构 | 第10-11页 |
·半导体光催化基本原理 | 第11-14页 |
·纳米TiO_2 光催化薄膜的制备方法 | 第14-17页 |
·溶胶凝胶法 | 第14页 |
·化学气相沉积法 | 第14-15页 |
·物理气相沉积法 | 第15页 |
·液相沉积法 | 第15页 |
·电沉积法 | 第15-17页 |
·胶粘法 | 第17页 |
·TiO_2 光催化剂发展中存在问题及解决办法 | 第17-20页 |
·TiO_2 光催化剂发展中存在问题 | 第17-18页 |
·TiO_2 光催化材料的改性技术 | 第18-20页 |
·TiO_2 光催化剂的应用 | 第20-21页 |
·TiO_2 光催化降解有机污染物 | 第20页 |
·TiO_2 薄膜的光致超亲水性研究 | 第20页 |
·TiO_2 光激发杀灭细菌 | 第20-21页 |
·本论文选题思路和研究内容 | 第21-22页 |
第二章TiO_2/Al_20_3复合膜的制备和表征 | 第22-38页 |
·引言 | 第22页 |
·实验部分 | 第22-25页 |
·实验材料与仪器 | 第22-23页 |
·TiO_2/Al_20_3 复合膜制备工艺 | 第23-25页 |
·TiO_2/Al_20_3 复合膜结构性能表征 | 第25页 |
·结果讨论 | 第25-35页 |
·TiO_2/Al_20_3 复合膜工艺条件选择 | 第25-30页 |
·铝阳极氧化膜微孔中电沉积TiO_2 机理 | 第30页 |
·TiO_2/Al_20_3 复合膜结构表征 | 第30-32页 |
·TiO_2/Al_20_3 复合膜紫外可见光谱及影响因素研究 | 第32-35页 |
·本章小结 | 第35-38页 |
第三章 TiO_2/Al_20_3复合膜光催化降解次甲基蓝 | 第38-48页 |
·引言 | 第38-39页 |
·实验部分 | 第39-40页 |
·实验材料与仪器 | 第39页 |
·光催化反应装置 | 第39-40页 |
·光催化降解率的测定 | 第40页 |
·实验结果分析 | 第40-46页 |
·有机染料次甲基蓝最大吸收波长和标准曲线的确定 | 第40-41页 |
·TiO_2/Al_20_3 复合膜光催化性能 | 第41-42页 |
·Cl~-对光催化过程的影响 | 第42页 |
·降解液pH 值对光催化反应的影响 | 第42页 |
·不同煅烧温度对光催化性能影响 | 第42-43页 |
·TiO_2/Al_20_3 复合薄膜的交流阻抗谱分析 | 第43-46页 |
·本章总结 | 第46-48页 |
第四章 过渡金属掺杂改性TiO_2/Al_20_3复合膜光催化性能研究 | 第48-70页 |
·引言 | 第48-49页 |
·实验部分 | 第49-50页 |
·实验材料与仪器 | 第49页 |
·M/TiO_2/Al_20_3 复合膜的制备 | 第49-50页 |
·M/TiO_2/Al_20_3 复合膜的表征 | 第50页 |
·实验结果及讨论 | 第50-69页 |
·Ni 掺杂改性TiO_2/Al_20_3 光催化复合膜 | 第50-54页 |
·Cu 掺杂改性TiO_2/Al_20_3 光催化复合膜 | 第54-58页 |
·Co 掺杂改性TiO_2/Al_20_3 光催化复合膜 | 第58-61页 |
·三种过渡金属单独掺杂效果综合分析 | 第61-62页 |
·复合金属掺杂改性纳米TiO_2/Al_20_3 光催化复合膜 | 第62-69页 |
·本章总结 | 第69-70页 |
第五章 总结与展望 | 第70-72页 |
·主要实验结果与讨论 | 第70-71页 |
·展望 | 第71-72页 |
致谢 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-79页 |
研究生在读期间研究成果 | 第79-80页 |