| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-23页 |
| ·光催化基本原理和应用 | 第7-13页 |
| ·光催化基本原理 | 第7-10页 |
| ·光催化技术的应用 | 第10-12页 |
| ·半导体光催化技术存在的问题 | 第12-13页 |
| ·光催化剂的负载化 | 第13-16页 |
| ·纳米TiO_2光催化剂的常用载体 | 第13-14页 |
| ·纳米TiO_2制备方法 | 第14-15页 |
| ·纳米TiO_2光催化剂的负载方法 | 第15-16页 |
| ·光催化剂负载化研究存在的问题 | 第16页 |
| ·本课题的选题依据 | 第16-21页 |
| ·溶胶凝胶法的理论依据 | 第16-18页 |
| ·光催化剂改性的理论依据 | 第18-20页 |
| ·纳米TiO_2光催化降解染料机理 | 第20-21页 |
| ·本论文所做工作 | 第21-23页 |
| 第二章 TiO_2溶胶-凝胶的制备及其影响因素 | 第23-29页 |
| ·实验部分 | 第23-24页 |
| ·试剂与器材 | 第23页 |
| ·TiO_2溶胶凝胶的制备 | 第23-24页 |
| ·溶胶-凝胶法反应机理 | 第24-25页 |
| ·TiO_2溶胶性质的测定 | 第25-27页 |
| ·TiO_2溶胶Zeta 电位的测定 | 第25-26页 |
| ·TiO_2的红外光谱分析（IR） | 第26-27页 |
| ·影响TiO_2制备的主要因素 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 TiO_2/Al_20_3光催化复合膜的制备及表征 | 第29-46页 |
| ·实验部分 | 第29-34页 |
| ·试剂与器材 | 第29页 |
| ·TiO_2/Al_20_3膜的制备 | 第29-30页 |
| ·物性分析 | 第30-31页 |
| ·TiO_2/Al_20_3膜的光催化反应 | 第31-33页 |
| ·TiO_2薄膜的交流阻抗测试 | 第33-34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-44页 |
| ·Al_20_3基底的表面形貌 | 第34页 |
| ·TiO_2/Al_20_3薄膜的物性分析 | 第34-39页 |
| ·影响TiO_2/Al_20_3膜光催化活性的因素分析 | 第39-43页 |
| ·TiO_2薄膜的交流阻抗测试分析 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 贵金属修饰TiO_2/M/Al_20_3光催化复合膜的制备及表征 | 第46-58页 |
| ·实验部分 | 第46-48页 |
| ·试剂与器材 | 第46页 |
| ·TiO_2/M/Al_20_3膜的制备 | 第46-47页 |
| ·物性分析 | 第47页 |
| ·TiO_2/M/Al_20_3膜的光催化反应 | 第47-48页 |
| ·交流阻抗测试 | 第48页 |
| ·结果与讨论 | 第48-57页 |
| ·M/TiO_2/Al_20_3薄膜的物性分析 | 第48-52页 |
| ·影响TiO_2/M/Al_20_3膜光催化活性的因素分析 | 第52-54页 |
| ·TiO_2/M/Al_20_3光催化薄膜的交流阻抗测试 | 第54-57页 |
| ·本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 小结 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 研究生在读期间的研究成果 | 第64-65页 |
