有序硅纳米材料的制备及其稳定高效的光催化性能
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-13页 |
| 引言 | 第13-15页 |
| 1 硅纳米材料在环境领域的研究进展 | 第15-34页 |
| ·光催化污染控制的现状 | 第15-17页 |
| ·光催化优点和面临问题 | 第15页 |
| ·光催化能量效率提高的方法 | 第15-17页 |
| ·硅纳米材料在环境领域的研究现状 | 第17-23页 |
| ·硅在空气和水溶液中的钝化 | 第18-19页 |
| ·避免硅纳米材料钝化的方法 | 第19-23页 |
| ·硅纳米材料的设计与制备 | 第23-26页 |
| ·多孔硅 | 第24页 |
| ·硅纳米线 | 第24-26页 |
| ·当前硅纳米材料在环境领域的应用 | 第26-32页 |
| ·光催化降解污染物 | 第27-28页 |
| ·光催化产氢 | 第28-30页 |
| ·太阳能电池 | 第30-31页 |
| ·锂离子电池 | 第31-32页 |
| ·研究背景、目的及内容 | 第32-34页 |
| ·研究背景和目的 | 第32页 |
| ·研究内容 | 第32页 |
| ·研究意义 | 第32-34页 |
| 2 大孔硅/石墨烯异质结的制备及其光电催化脱溴 | 第34-50页 |
| ·实验部分 | 第34-37页 |
| ·实验材料与试剂 | 第34-35页 |
| ·实验仪器 | 第35-36页 |
| ·大孔硅/石墨烯的制备 | 第36页 |
| ·大孔硅/石墨烯的表征 | 第36-37页 |
| ·大孔硅/石墨烯的表征 | 第37-43页 |
| ·形貌表征 | 第37-39页 |
| ·组成分析 | 第39页 |
| ·光吸收性能 | 第39-40页 |
| ·电荷分离性能 | 第40-41页 |
| ·光电化学性质 | 第41-43页 |
| ·大孔硅/石墨烯的光电催化应用 | 第43-49页 |
| ·偏压的选择 | 第43-44页 |
| ·光电催化性能 | 第44-46页 |
| ·降解机理 | 第46-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 3 阵列硅纳米线/铂的制备及其光电催化脱氯 | 第50-63页 |
| ·实验部分 | 第50-52页 |
| ·实验材料与试剂 | 第50-51页 |
| ·化学仪器与装置 | 第51页 |
| ·硅纳米线/铂的制备 | 第51页 |
| ·硅纳米线/铂的表征 | 第51-52页 |
| ·阵列硅纳米线/铂的表征 | 第52-55页 |
| ·形貌及组成分析 | 第52-53页 |
| ·光电化学性质 | 第53-55页 |
| ·阵列硅纳米线/铂的光电催化应用 | 第55-62页 |
| ·硅片电阻的选择 | 第55-56页 |
| ·降解电压的优化 | 第56-57页 |
| ·光电催化性能 | 第57-59页 |
| ·短路光催化 | 第59-60页 |
| ·反应机理 | 第60-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 4 阵列硅纳米线/氮化钛的制备及其光电催化脱卤 | 第63-80页 |
| ·实验部分 | 第63-65页 |
| ·实验材料与试剂 | 第63-64页 |
| ·实验仪器与装置 | 第64页 |
| ·氮化钛纳米颗粒的制备 | 第64页 |
| ·氮化钛电极的制备 | 第64-65页 |
| ·硅纳米线/氮化钛的制备 | 第65页 |
| ·硅纳米线/氮化钛的表征 | 第65页 |
| ·氮化钛电极的表征 | 第65-71页 |
| ·形貌表征 | 第65-67页 |
| ·晶体结构分析 | 第67-68页 |
| ·电化学性质 | 第68-69页 |
| ·塔菲尔曲线 | 第69-71页 |
| ·氮化钛电极的电催化应用 | 第71-76页 |
| ·偏压的选择 | 第71-72页 |
| ·电催化性能 | 第72-73页 |
| ·降解机理 | 第73-76页 |
| ·硅纳米线/氮化钛的光电催化应用 | 第76-79页 |
| ·形貌表征 | 第76页 |
| ·光电化学性质 | 第76-77页 |
| ·光电催化性能 | 第77-79页 |
| ·本章小结 | 第79-80页 |
| 5 分级结构的多孔硅的制备及其光催化性能 | 第80-93页 |
| ·实验部分 | 第80-82页 |
| ·实验材料与试剂 | 第80-81页 |
| ·实验仪器与装置 | 第81页 |
| ·分级多孔硅的制备 | 第81-82页 |
| ·分级多孔硅的表征 | 第82页 |
| ·分级多孔硅的表征 | 第82-90页 |
| ·光吸收及减反射性能 | 第82-85页 |
| ·形貌表征 | 第85-86页 |
| ·孔径分布 | 第86-87页 |
| ·禁带宽度以及价带位置的确定 | 第87-89页 |
| ·光电化学性质 | 第89-90页 |
| ·分级多孔硅的光催化应用 | 第90-92页 |
| ·光催化性能 | 第90-91页 |
| ·矿化能力 | 第91-92页 |
| ·稳定性 | 第92页 |
| ·本章小结 | 第92-93页 |
| 结论 | 第93-95页 |
| 参考文献 | 第95-104页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第104-105页 |
| 致谢 | 第105-106页 |