| 摘要 | 第1-12页 |
| Abstract | 第12-17页 |
| 第一章 绪论 | 第17-51页 |
| ·引言 | 第17-19页 |
| ·ZnO材料的结构和性质 | 第19-29页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第19页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第19-23页 |
| ·ZnO的能带结构 | 第23-24页 |
| ·ZnO典型的生长结构 | 第24-25页 |
| ·ZnO的电学性质 | 第25-27页 |
| ·ZnO的光学性质 | 第27-28页 |
| ·ZnO的磁学性质 | 第28-29页 |
| ·ZnO材料的缺陷与掺杂 | 第29-35页 |
| ·ZnO中的本征缺陷 | 第30-32页 |
| ·ZnO中的杂质缺陷 | 第32-33页 |
| ·本征ZnO的弱N型导电 | 第33页 |
| ·ZnO的掺杂 | 第33-35页 |
| ·ZnO材料的形态及其制备方法 | 第35-47页 |
| ·ZnO单晶及其制备 | 第35-37页 |
| ·ZnO薄膜及其制备 | 第37-39页 |
| ·ZnO纳米结构 | 第39-42页 |
| ·ZnO纳米材料的制备方法 | 第42-47页 |
| ·ZnO材料的应用 | 第47-48页 |
| ·ZnO光电器件 | 第47页 |
| ·ZnO压电器件 | 第47-48页 |
| ·ZnO太阳能电池 | 第48页 |
| ·ZnO气敏元件 | 第48页 |
| ·研究课题选取依据及主要研究内容 | 第48-51页 |
| ·研究课题选取依据 | 第48-49页 |
| ·本文主要研究内容 | 第49-51页 |
| 第二章 实验技术设备及测试表征方法 | 第51-57页 |
| ·实验技术设备 | 第51-52页 |
| ·磁控溅射系统 | 第51-52页 |
| ·高温退火系统 | 第52页 |
| ·实验中所需要的主要材料和试剂 | 第52页 |
| ·衬底材料及其处理 | 第52页 |
| ·测试表征方法 | 第52-57页 |
| ·样品结构成分测试 | 第52-54页 |
| ·样品表面形貌测试 | 第54-55页 |
| ·样品光学性质测试 | 第55-57页 |
| 第三章 Au点阵模板制备ZnO单晶堆垒纳米棒的研究 | 第57-79页 |
| ·Au点阵模板的制备 | 第57-58页 |
| ·ZnO单晶堆垒纳米棒的制备 | 第58页 |
| ·退火条件对ZnO纳米棒结构形貌的影响 | 第58-66页 |
| ·退火温度对ZnO纳米棒的影响 | 第58-61页 |
| ·退火时间对ZnO纳米棒的影响 | 第61-63页 |
| ·退火气氛对ZnO纳米棒的影响 | 第63-65页 |
| ·气体流量对ZnO纳米棒的影响 | 第65-66页 |
| ·Au点阵模板对ZnO纳米棒结构及性质的影响 | 第66-71页 |
| ·Au点阵模板扫描电镜(SEM)分析 | 第67页 |
| ·ZnO样品扫描电镜(SEM)分析 | 第67-68页 |
| ·ZnO样品X射线衍射(XRD)分析 | 第68-69页 |
| ·ZnO样品傅里叶变换红外(FTIR)分析 | 第69-70页 |
| ·ZnO样品光致发光(PL)分析 | 第70-71页 |
| ·最佳条件生长ZnO纳米棒的结构特性和光学性质 | 第71-77页 |
| ·扫描电镜(SEM)分析 | 第71-72页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第72页 |
| ·高分辨透射电镜(HRTEM)分析 | 第72-73页 |
| ·傅里叶变换红外(FTIR)分析 | 第73-74页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第74-77页 |
| ·光致发光(PL)分析 | 第77页 |
| ·本章小结 | 第77-79页 |
| 第四章 稀土Eu掺杂ZnO材料的研究 | 第79-91页 |
| ·引言 | 第79页 |
| ·样品制备的实验工艺 | 第79-81页 |
| ·Au点阵模板制备 | 第80页 |
| ·稀土Eu掺杂ZnO材料制备 | 第80-81页 |
| ·稀土Eu掺杂样品的测试与表征 | 第81页 |
| ·稀土Eu掺杂样品的结构形貌分析 | 第81-89页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第81-82页 |
| ·扫描电镜(SEM)分析 | 第82-83页 |
| ·X射线能谱(EDS)分析 | 第83-85页 |
| ·高分辨透射电镜(HRTEM)分析 | 第85-87页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第87-89页 |
| ·稀土Eu掺杂样品的发光性质研究 | 第89-90页 |
| ·本章小结 | 第90-91页 |
| 第五章 磁场控制ZnO材料的生长研究 | 第91-105页 |
| ·磁控溅射的基本原理 | 第91-92页 |
| ·恒定电场和磁场中带电粒子的运动 | 第92-96页 |
| ·恒定电磁场中带电粒子的运动 | 第92-93页 |
| ·磁镜场中带电粒子的运动 | 第93-94页 |
| ·磁场在磁控溅射中的作用 | 第94-96页 |
| ·外加磁场条件下ZnO薄膜的制备 | 第96-100页 |
| ·样品的制备与表征 | 第96-97页 |
| ·外加磁场对未退火样品形貌的影响 | 第97-99页 |
| ·外加磁场对未退火样品结晶度影响 | 第99页 |
| ·外加磁场对溅射膜厚的影响 | 第99-100页 |
| ·退火后ZnO薄膜特性分析 | 第100-103页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第100-101页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第101-102页 |
| ·光致发光(PL)谱分析 | 第102-103页 |
| ·本章小结 | 第103-105页 |
| 第六章 ZnO单晶堆垒纳米棒生长机理初探 | 第105-109页 |
| ·金属氧化物纳米材料生长机制 | 第105-106页 |
| ·ZnO单晶堆垒纳米棒生长机制 | 第106-108页 |
| ·本章小结 | 第108-109页 |
| 第七章 总结与展望 | 第109-113页 |
| ·本论文主要研究结果 | 第109-110页 |
| ·对以后工作的建议及展望 | 第110-113页 |
| 参考文献 | 第113-127页 |
| 攻读博士期间发表的论文目录 | 第127-129页 |
| 致谢 | 第129页 |