氧化条件下钢中晶界处Si-P-Cu元素的行为研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第7-19页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第7-8页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第8-9页 |
| 1.2.1 国外研究概况 | 第8页 |
| 1.2.2 国内研究概况 | 第8-9页 |
| 1.3 钢中硅、磷、铜元素的来源及作用 | 第9-12页 |
| 1.3.1 钢中硅、磷、铜元素的来源 | 第9-10页 |
| 1.3.2 硅、磷、铜元素在钢中的作用 | 第10-12页 |
| 1.4 元素在钢中的偏析 | 第12-14页 |
| 1.4.1 凝固偏析 | 第12-13页 |
| 1.4.2 晶界偏析 | 第13-14页 |
| 1.5 固体中的扩散 | 第14-17页 |
| 1.5.1 扩散机制 | 第14页 |
| 1.5.2 扩散定律 | 第14-15页 |
| 1.5.3 随机行走与扩散 | 第15-16页 |
| 1.5.4 扩散的影响因素 | 第16-17页 |
| 1.6 课题研究内容 | 第17-19页 |
| 第2章 实验材料及研究方法 | 第19-25页 |
| 2.1 实验原料 | 第19-20页 |
| 2.2 实验材料熔炼及试样制备 | 第20-21页 |
| 2.2.1 中频感应炉实验钢熔炼 | 第20-21页 |
| 2.2.2 试样制备 | 第21页 |
| 2.3 实验设备及方法 | 第21-25页 |
| 2.3.1 箱式气氛电阻炉实验 | 第21页 |
| 2.3.2 金相显微镜实验 | 第21-22页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜及能谱实验 | 第22-23页 |
| 2.3.4 俄歇电子能谱实验 | 第23-25页 |
| 第3章 氧化条件下钢中晶界处硅和铜元素行为研究 | 第25-37页 |
| 3.1 高温氧化条件下Si-Cu晶界行为分析 | 第25-31页 |
| 3.1.1 1050℃氧化Si-Cu行为能谱分析 | 第25-27页 |
| 3.1.2 1100℃氧化Si-Cu行为能谱分析 | 第27-30页 |
| 3.1.3 1150℃氧化Si-Cu行为能谱分析 | 第30-31页 |
| 3.2 错配度理论计算 | 第31-33页 |
| 3.3 分析与讨论 | 第33-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 氧化条件下钢中晶界处磷和铜元素行为研究 | 第37-47页 |
| 4.1 AES测试结果分析 | 第37-40页 |
| 4.2 P和Cu元素晶界偏聚分析 | 第40-44页 |
| 4.3 分析与讨论 | 第44-46页 |
| 4.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第5章 氧化条件下硅、磷元素对富铜相行为的影响 | 第47-61页 |
| 5.1 钢内部氧化情况分析 | 第47-50页 |
| 5.2 氧化条件下Si、P元素影响富铜相行为分析 | 第50-57页 |
| 5.2.1 金相显微分析 | 第50-52页 |
| 5.2.2 SEM及EDS分析 | 第52-57页 |
| 5.3 分析与讨论 | 第57-60页 |
| 5.4 本章小结 | 第60-61页 |
| 第6章 结论 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 附录 | 第66-67页 |
