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Pt/HfO2堆叠结构电子功函数调控的第一性原理研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第1章 绪论第9-22页
    1.1 引言第9-11页
    1.2 金属材料的功函数研究概况第11-15页
        1.2.1 功函数的定义第12-14页
        1.2.2 单元素金属清洁表面的功函数第14-15页
    1.3 金属栅极功函数调控研究进展第15-20页
        1.3.1 金属栅极功函数对表面吸附及表面覆盖层的响应第15-16页
        1.3.2 金属化合物栅极功函数的研究第16-17页
        1.3.3 合金栅极功函数的调节第17页
        1.3.4 金属栅极功函数对变形的响应第17-18页
        1.3.5 界面掺杂/夹层对金属栅/高 k 介质有效功函数的影响第18-20页
    1.4 本文的研究目的、意义和研究内容第20-22页
        1.4.1 研究的目的和意义第20页
        1.4.2 研究的内容第20-22页
第2章 理论方法第22-27页
    2.1 密度泛函理论第22-25页
        2.1.1 Hohenberg-Kohn 定理第22-23页
        2.1.2 Kohn-Sham 方程第23-24页
        2.1.3 局域密度近似(LDA)第24-25页
        2.1.4 广义梯度近似(GGA)第25页
    2.2 投影缀加平面波方法第25-26页
    2.3 VASP 软件包简介第26页
    2.4 Materials Studio 软件简介第26-27页
第3章 Pt 表面功函数的应变调控第27-37页
    3.1 引言第27-28页
    3.2 Pt(100)表面模型与计算方法第28-29页
        3.2.1 Pt(100)表面模型第28-29页
        3.2.2 计算参数和方法第29页
    3.3 计算结果及讨论第29-36页
        3.3.1 Pt(100)表面功函数对应变的响应第29-30页
        3.3.2 功函数-应变关系的机理分析第30-36页
        3.3.3 其他金属栅极功函数的应变调控第36页
    3.4 小结第36-37页
第4章 Pt/HfO_2界面有效功函数对金属原子掺杂的响应第37-52页
    4.1 引言第37页
    4.2 Pt/HfO_2界面模型与计算方法第37-42页
        4.2.1 Pt/HfO_2界面模型第37-40页
        4.2.2 计算参数和方法第40-42页
    4.3 计算结果与讨论第42-51页
        4.3.1 Pt/HfO_2界面有效功函数第42-43页
        4.3.2 掺杂位置对 Pt/HfO_2界面有效功函数的影响第43-45页
        4.3.3 掺杂浓度对 Pt/HfO_2界面有效功函数的调制第45-50页
        4.3.4 掺杂原子电负性与 Pt/HfO_2界面有效功函数的关联第50-51页
    4.4 小结第51-52页
第5章 总结与展望第52-54页
    5.1 总结第52-53页
    5.2 展望第53-54页
参考文献第54-60页
致谢第60-61页
攻读硕士学位期间已公开发表的论文第61页

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