| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第12-24页 |
| 1.1 研究背景 | 第12-20页 |
| 1.1.1 显示技术的现状及未来发展方向 | 第12-15页 |
| 1.1.2 激光退火技术及其发展现状 | 第15-20页 |
| 1.2 论文的目的、意义、主要工作及创新点 | 第20-24页 |
| 第2章 准分子激光退火设备的关键技术 | 第24-47页 |
| 2.1 准分子激光概述 | 第24-26页 |
| 2.2 放电激励大能量准分子激光器的关键技术 | 第26-31页 |
| 2.2.1 大面积均匀放电技术 | 第26-29页 |
| 2.2.2 高压快脉冲激励技术 | 第29-31页 |
| 2.3 光束整形概述 | 第31-36页 |
| 2.4 准分子激光光束整形系统的关键技术 | 第36-46页 |
| 2.4.1 能量衰减技术 | 第36-38页 |
| 2.4.2 激光扩束技术 | 第38-40页 |
| 2.4.3 光斑匀化技术 | 第40-43页 |
| 2.4.4 投影技术 | 第43-44页 |
| 2.4.5 线形光斑在线监测技术 | 第44-46页 |
| 2.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第3章 准分子激光大能量输出设计 | 第47-54页 |
| 3.1 大激活区放电电极设计 | 第47-49页 |
| 3.2 高压快脉冲激励回路设计 | 第49-50页 |
| 3.3 大能量激光输出实验 | 第50-53页 |
| 3.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第4章 准分子激光线形光束整形系统的设计 | 第54-77页 |
| 4.1 线形光束整形系统总体设计方案 | 第54-56页 |
| 4.2 投影系统设计 | 第56-61页 |
| 4.3 均匀照明系统设计 | 第61-76页 |
| 4.4 本章小结 | 第76-77页 |
| 第5章 准分子激光线形光束整形系统仿真及线形光斑测试 | 第77-90页 |
| 5.1 线形光束整形系统仿真 | 第77-84页 |
| 5.2 线形光斑主要参数测试 | 第84-88页 |
| 5.3 本章小结 | 第88-90页 |
| 第6章 线形光束晶化非晶硅薄膜 | 第90-98页 |
| 6.1 实验方法 | 第90-91页 |
| 6.2 晶化阈值能量密度 | 第91-92页 |
| 6.3 晶化能量密度窗口 | 第92-94页 |
| 6.4 辐照脉冲数量的影响 | 第94-95页 |
| 6.5 大尺寸非晶硅薄膜的晶化 | 第95-97页 |
| 6.6 本章小结 | 第97-98页 |
| 第7章 总结与展望 | 第98-102页 |
| 7.1 总结 | 第98-100页 |
| 7.2 展望 | 第100-102页 |
| 参考文献 | 第102-111页 |
| 致谢 | 第111-112页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第112-113页 |