| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 氮氧化物现状及控制技术 | 第12-16页 |
| 1.1.1 氮氧化物危害与排放现状 | 第12-13页 |
| 1.1.2 火电厂氮氧化物控制技术 | 第13-16页 |
| 1.2 火电厂 SCR 脱硝技术 | 第16-20页 |
| 1.2.1 SCR 脱硝催化剂 | 第16-17页 |
| 1.2.2 SCR 脱硝机理 | 第17-19页 |
| 1.2.3 催化剂失活与原因分析 | 第19-20页 |
| 1.3 催化剂再生 | 第20-25页 |
| 1.3.1 水洗再生 | 第20-22页 |
| 1.3.2 酸液处理再生与 SO_2酸化热再生 | 第22-23页 |
| 1.3.3 热（还原）再生 | 第23页 |
| 1.3.4 复合再生 | 第23-25页 |
| 1.4 本文研究目的及内容 | 第25-26页 |
| 1.4.1 研究目的 | 第25页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第25-26页 |
| 第二章 实验部分 | 第26-31页 |
| 2.1 实验试剂与仪器 | 第26-27页 |
| 2.1.1 试剂与气体 | 第26-27页 |
| 2.1.2 主要实验仪器 | 第27页 |
| 2.2 催化剂材料 | 第27-28页 |
| 2.2.1 催化剂材料 | 第27页 |
| 2.2.2 催化剂中毒与再生 | 第27-28页 |
| 2.2.3 催化剂改性 | 第28页 |
| 2.3 催化剂活性评价 | 第28-29页 |
| 2.4 催化剂表征 | 第29-31页 |
| 2.4.1 X 射线能谱(EDS) | 第29页 |
| 2.4.2 N_2吸附脱附测试 | 第29页 |
| 2.4.3 X 射线衍射（XRD） | 第29-30页 |
| 2.4.4 傅里叶变换红外（FT-IR） | 第30页 |
| 2.4.5 程序升温还原（H_2-TPR） | 第30页 |
| 2.4.6 X 射线光电子能谱（XPS） | 第30页 |
| 2.4.7 扫描电镜（SEM） | 第30页 |
| 2.4.8 热重（TGA） | 第30页 |
| 2.4.9 X 射线荧光（XRF） | 第30-31页 |
| 第三章 电厂钒钛基 SCR 脱硝催化剂失活原因研究 | 第31-40页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 实验结果与讨论 | 第31-39页 |
| 3.2.1 催化剂活性评价结果 | 第31-32页 |
| 3.2.2 催化剂表征结果 | 第32-39页 |
| 3.3 结论 | 第39-40页 |
| 第四章 电厂钒钛基 SCR 脱硝催化剂再生研究 | 第40-55页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 水洗再生 | 第40-43页 |
| 4.2.1 催化剂的 SCR 活性测试 | 第40-42页 |
| 4.2.2 NH_3吸附红外光谱分析（FT-IR） | 第42页 |
| 4.2.3 程序升温还原（H_2-TPR）分析 | 第42-43页 |
| 4.3 酸洗再生 | 第43-53页 |
| 4.3.1 催化剂活性评价结果 | 第43-45页 |
| 4.3.2 X 射线能谱（EDS） | 第45-46页 |
| 4.3.3 比表面积测试（BET） | 第46页 |
| 4.3.4 X 射线衍射分析（XRD） | 第46-47页 |
| 4.3.5 NH_3吸附红外光谱分析（FT-IR） | 第47-51页 |
| 4.3.6 程序升温还原分析（H_2-TPR） | 第51-52页 |
| 4.3.7 X 射线光电子能谱（XPS） | 第52-53页 |
| 4.4 结论 | 第53-55页 |
| 第五章 电厂钒钛基 SCR 脱硝催化剂抗毒改性研究 | 第55-71页 |
| 5.1 引言 | 第55-56页 |
| 5.2 Ni 掺杂 | 第56-64页 |
| 5.2.1 催化剂的 SCR 活性测试 | 第56-57页 |
| 5.2.2 X 射线能谱（EDS） | 第57-58页 |
| 5.2.3 比表面积测试（BET） | 第58页 |
| 5.2.4 X 射线衍射分析（XRD） | 第58-59页 |
| 5.2.5 NH_3吸附红外光谱分析（FT‐IR） | 第59-62页 |
| 5.2.6 程序升温还原分析（H_2‐TPR） | 第62-63页 |
| 5.2.7 X 射线光电子能谱（XPS） | 第63-64页 |
| 5.3 Zr 掺杂 | 第64-70页 |
| 5.3.1 催化剂的 SCR 活性测试 | 第64-65页 |
| 5.3.2 比表面积测试（BET） | 第65-66页 |
| 5.3.3 X 射线衍射分析（XRD） | 第66页 |
| 5.3.4 NH_3吸附红外光谱分析（FT‐IR） | 第66-68页 |
| 5.3.5 程序升温还原分析（H_2‐TPR） | 第68-69页 |
| 5.3.6 X 射线光电子能谱（XPS） | 第69-70页 |
| 5.4 结论 | 第70-71页 |
| 结论与展望 | 第71-73页 |
| 全文总结 | 第71页 |
| 进一步工作展望 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-80页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 附件 | 第82页 |
