| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-31页 |
| ·镁、镁合金的特点及应用 | 第15-17页 |
| ·镁及其特点 | 第15-16页 |
| ·镁合金及其特点 | 第16页 |
| ·镁合金应用 | 第16-17页 |
| ·镁合金的腐蚀 | 第17-20页 |
| ·纯镁的电化学特性 | 第17-19页 |
| ·镁合金表面的自然氧化膜 | 第19页 |
| ·镁合金的基本腐蚀类型 | 第19-20页 |
| ·镁合金表面防护 | 第20-23页 |
| ·化学转化 | 第20-21页 |
| ·阳极氧化 | 第21页 |
| ·微弧氧化 | 第21-22页 |
| ·电镀和化学镀 | 第22页 |
| ·气相沉积 | 第22-23页 |
| ·磁控溅射 | 第23-26页 |
| ·磁控溅射原理 | 第23-24页 |
| ·磁控溅射种类 | 第24-25页 |
| ·磁控溅射特点 | 第25-26页 |
| ·磁控溅射膜层生长 | 第26-27页 |
| ·国内外研究现状、存在的问题以及研究方向 | 第27-29页 |
| ·磁控溅射技术在镁合金防腐蚀方面的国内外研究现状 | 第27-28页 |
| ·存在的问题以及研究方向 | 第28-29页 |
| ·选题原因、目的及主要研究内容 | 第29-31页 |
| ·选题原因及目的 | 第29页 |
| ·主要研究内容 | 第29-31页 |
| 第二章 试验材料与方法 | 第31-36页 |
| ·实验材料及设备 | 第31-32页 |
| ·实验材料 | 第31页 |
| ·实验所用试剂 | 第31-32页 |
| ·实验所用仪器 | 第32页 |
| ·磁控溅射制备膜的过程 | 第32-33页 |
| ·前期表面处理 | 第32页 |
| ·磁控溅射镀膜 | 第32-33页 |
| ·实验测试及分析方法 | 第33-36页 |
| ·膜层表面微观形貌观察及分析 | 第33页 |
| ·膜层X 射线衍射测试及分析 | 第33-34页 |
| ·膜层硬度测量 | 第34页 |
| ·膜层接触角测量 | 第34-35页 |
| ·膜层电化学极化曲线与阻抗分析 | 第35页 |
| ·3.5%NaCl水溶液腐蚀试验及腐蚀后试样表面形貌观察 | 第35-36页 |
| 第三章 Al单层膜的制备、性能测试及分析 | 第36-49页 |
| ·Al单层膜的制备 | 第36页 |
| ·基材温度对Al单层膜组织和性能的影响 | 第36-42页 |
| ·基材温度对Al单层膜表面形貌的影响 | 第37-38页 |
| ·基材温度对Al单层膜组织的影响 | 第38-39页 |
| ·基材温度对Al单层膜显微硬度(HV)的影响 | 第39-40页 |
| ·基材温度对Al单层膜极化曲线的影响 | 第40-42页 |
| ·负偏压对Al单层膜组织和性能的影响 | 第42-48页 |
| ·负偏压对Al单层膜表面形貌和组织的影响 | 第42-45页 |
| ·负偏压对Al单层膜显微硬度(HV)的影响 | 第45-46页 |
| ·负偏压对Al单层膜极化曲线的影响 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 Ti-Al-N单层膜的制备、性能测试及分析 | 第49-64页 |
| ·Ti-Al-N单层膜的制备 | 第49页 |
| ·N_2/Ar分压比对Ti-Al-N单层膜组织和性能的影响 | 第49-56页 |
| ·N_2/Ar分压比对Ti-Al-N单层膜表面晶体形貌的影响 | 第50-51页 |
| ·不同N_2/Ar分压比Ti-Al-N单层膜X 射线衍射分析 | 第51-52页 |
| ·N_2/Ar分压比对Ti-Al-N单层膜显微硬度（HV）的影响 | 第52-53页 |
| ·N_2/Ar分压比对Ti-Al-N单层膜亲水性的影响 | 第53-54页 |
| ·N_2/Ar分压比对Ti-Al-N单层膜电化学性能的影响 | 第54-55页 |
| ·试样在3.5%NaCl溶液中腐蚀1h后表面形貌对比 | 第55-56页 |
| ·负偏压对Ti-Al-N单层膜组织和性能的影响 | 第56-62页 |
| ·负偏压对Ti-Al-N单层膜表面晶体形貌的影响 | 第57-58页 |
| ·负偏压对Ti-Al-N单层膜显微硬度(HV)的影响 | 第58-59页 |
| ·负偏压对Ti-Al-N单层膜接触角的影响 | 第59-60页 |
| ·负偏压对Ti-Al-N单层膜电化学性能的影响 | 第60-61页 |
| ·试样在3.5%NaCl溶液中腐蚀1h后表面形貌对比 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 第五章 Al/Ti-Al-N双层膜制备、性能测试及分析 | 第64-70页 |
| ·Al/Ti-Al-N双层膜的制备 | 第64-65页 |
| ·Al/Ti-Al-N双层膜与Ti-Al-N单层膜组织和性能对比分析 | 第65-68页 |
| ·Al/Ti-Al-N双层膜与Ti-Al-N单层膜表面形貌的对比分析 | 第65页 |
| ·Al/Ti-Al-N双层膜和Ti-Al-N单层膜X 射线衍射对比分析 | 第65-66页 |
| ·Al/Ti-Al-N双层膜与Ti-Al-N单层膜亲水性的对比分析 | 第66-67页 |
| ·Al/Ti-Al-N双层膜与Ti-Al-N单层膜电化学性能的对比分析 | 第67-68页 |
| ·试样在3.5%NaCl 溶液中腐蚀1h后表面形貌对比 | 第68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 结论与展望 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-77页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 详细摘要 | 第79-81页 |
| ABSTRACT | 第81-82页 |
