| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 石墨烯简介 | 第12-13页 |
| 1.3 氧化铝薄膜的基本结构与性质 | 第13-15页 |
| 1.4 氧化铝薄膜的应用前景 | 第15-16页 |
| 1.4.1 光学领域的应用 | 第15页 |
| 1.4.2 微电子领域的应用 | 第15-16页 |
| 1.4.3 机械领域的应用 | 第16页 |
| 1.5 石墨烯场晶体管（GFET）简介 | 第16-18页 |
| 1.6 性能表征手段 | 第18-19页 |
| 1.6.1 光学显微镜 | 第18页 |
| 1.6.2 扫描电子显微镜SEM | 第18页 |
| 1.6.3 拉曼光谱 | 第18-19页 |
| 1.6.4 原子力显微镜AFM | 第19页 |
| 1.6.5 粒度分析仪 | 第19页 |
| 1.7 论文主要研究内容 | 第19-21页 |
| 第2章 石墨烯的制备与转移 | 第21-29页 |
| 2.1 石墨烯的制备方法 | 第21-24页 |
| 2.1.1 物理法 | 第21-22页 |
| 2.1.2 化学法 | 第22-24页 |
| 2.1.3 制备石墨烯的其他方法 | 第24页 |
| 2.2 CVD石墨烯的常规转移工艺 | 第24-26页 |
| 2.2.1 干法转移 | 第24-25页 |
| 2.2.2 腐蚀基底法 | 第25-26页 |
| 2.3 电化学鼓泡法转移石墨烯 | 第26-27页 |
| 2.4 本章小结 | 第27-29页 |
| 第3章 密闭空腔阻挡层电化学鼓泡法转移石墨烯 | 第29-41页 |
| 3.1 设计思路的提出 | 第29-30页 |
| 3.2 实验方法 | 第30-34页 |
| 3.2.1 实验试剂、装置及样品 | 第30-31页 |
| 3.2.2 改进的石墨烯上层支撑结构 | 第31-33页 |
| 3.2.3 实验步骤 | 第33-34页 |
| 3.3 结果及表征 | 第34-39页 |
| 3.3.1 鼓泡分离时间 | 第34-35页 |
| 3.3.2 光学显微镜与扫描电镜 | 第35-36页 |
| 3.3.3 拉曼光谱 | 第36-37页 |
| 3.3.4 原子力显微镜 | 第37页 |
| 3.3.5 载流子迁移率 | 第37-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-41页 |
| 第4章 氧化铝的制备 | 第41-51页 |
| 4.1 氧化铝的常用制备方法 | 第41-46页 |
| 4.1.1 气相法 | 第41-43页 |
| 4.1.2 液相法 | 第43-45页 |
| 4.1.3 固相法 | 第45-46页 |
| 4.2 石墨烯表面氧化铝薄膜常用制备方法 | 第46-49页 |
| 4.2.1 物理组装法 | 第47页 |
| 4.2.2 物理气相沉积法 | 第47页 |
| 4.2.3 原子层沉积法 | 第47-49页 |
| 4.3 本章小结 | 第49-51页 |
| 第5章 化学液相法淀积氧化铝薄膜 | 第51-57页 |
| 5.1 实验装置、样品与试剂 | 第51-52页 |
| 5.2 淀积微观机制的提出 | 第52-53页 |
| 5.3 实验结果与表征 | 第53-55页 |
| 5.4 本章小结 | 第55-57页 |
| 第6章 石墨烯上CLD氧化铝薄膜探究 | 第57-61页 |
| 6.1 石墨烯的制备与转移 | 第57页 |
| 6.2 工艺方法与步骤 | 第57-58页 |
| 6.3 实验结果与分析 | 第58-59页 |
| 6.4 CLD法在石墨烯表面淀积氧化铝薄膜的新设想 | 第59页 |
| 6.5 本章小结 | 第59-61页 |
| 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-70页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72页 |