| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 目录 | 第9-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-27页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第13-14页 |
| 1.2 衍射光栅发展历史 | 第14-15页 |
| 1.3 变栅距光栅研究现状及应用 | 第15-24页 |
| 1.3.1 变栅距光栅研究现状 | 第15-18页 |
| 1.3.2 变栅距光栅的应用 | 第18-24页 |
| 1.4 论文的主要研究内容和结构安排 | 第24-27页 |
| 1.4.1 论文的主要研究内容 | 第24页 |
| 1.4.2 论文的结构安排 | 第24-27页 |
| 第2章 平面变栅距全息光栅的基本原理 | 第27-49页 |
| 2.1 引言 | 第27-28页 |
| 2.2 平面变栅距光栅的聚焦原理 | 第28-30页 |
| 2.3 平面变栅距光栅刻槽函数设计 | 第30-38页 |
| 2.3.1 基于像差系数的平面变栅距光栅的刻槽函数系数设计方法 | 第31-35页 |
| 2.3.2 平面变栅距光栅的分辨能力 | 第35-38页 |
| 2.4 平面变栅距全息光栅的曝光系统 | 第38-47页 |
| 2.4.1 球面波曝光系统记录平面变栅距光栅 | 第39-41页 |
| 2.4.2 非球面波曝光系统记录平面变栅距光栅 | 第41-47页 |
| 2.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 第3章 球面波曝光系统下平面变栅距光栅记录参数的优化算法 | 第49-67页 |
| 3.1 引言 | 第49-50页 |
| 3.2 研究背景 | 第50-52页 |
| 3.2.1 局部优化算法 | 第51页 |
| 3.2.2 遗传算法 | 第51-52页 |
| 3.3 改进的局部优化算法 | 第52-55页 |
| 3.3.1 建立目标函数 | 第52-53页 |
| 3.3.2 改进的局部优化算法流程 | 第53-55页 |
| 3.4 不同优化算法对光栅记录参数的设计及结果对比分析 | 第55-65页 |
| 3.4.1 变栅距全息光栅记录参数对比分析 | 第57-59页 |
| 3.4.2 变栅距全息光栅刻槽函数对比分析 | 第59-61页 |
| 3.4.3 变栅距全息光栅分辨能力对比分析 | 第61-65页 |
| 3.5 本章小结 | 第65-67页 |
| 第4章 球面波曝光系统记录参数误差对光栅光谱成像的影响及补偿 | 第67-87页 |
| 4.1 引言 | 第67页 |
| 4.2 平面变栅距全息光栅评价方法 | 第67-72页 |
| 4.2.1 刻槽密度函数分析 | 第68页 |
| 4.2.2 聚集曲线分布分析 | 第68-69页 |
| 4.2.3 谱像宽度分析 | 第69-72页 |
| 4.3 记录臂长误差对光栅光谱性能的影响分析及补偿方法 | 第72-78页 |
| 4.3.1 记录臂长误差对光栅刻槽密度的影响 | 第72-73页 |
| 4.3.2 记录臂长误差对聚焦曲线的影响 | 第73-74页 |
| 4.3.3 记录臂长误差对谱像宽度的影响 | 第74-75页 |
| 4.3.4 记录臂长误差补偿方法 | 第75-78页 |
| 4.4 记录角度误差对光栅光谱性能的影响分析及补偿方法 | 第78-84页 |
| 4.4.1 记录角度误差对光栅刻槽密度的影响 | 第78-79页 |
| 4.4.2 记录角度误差对聚焦曲线的影响 | 第79-81页 |
| 4.4.3 记录角度误差对谱像宽度的影响 | 第81页 |
| 4.4.4 记录角度误差补偿方法 | 第81-84页 |
| 4.5 本章小结 | 第84-87页 |
| 第5章 极紫外波段平面变栅距全息光栅的研制 | 第87-107页 |
| 5.1 引言 | 第87-88页 |
| 5.2 用于极紫外波段平面变栅距全息光栅设计 | 第88-96页 |
| 5.2.1 极紫外波段平面变栅距全息光栅的刻槽密度函数构建 | 第88-90页 |
| 5.2.2 极紫外波段平面变栅距全息光栅记录参数的优化设计 | 第90-91页 |
| 5.2.3 极紫外波段平面变栅距全息光栅记录参数的优化结果分析 | 第91-96页 |
| 5.3 极紫外波段平面变栅距全息光栅制作 | 第96-106页 |
| 5.3.1 曝光系统搭建与调试 | 第97-100页 |
| 5.3.2 基底准备 | 第100-101页 |
| 5.3.3 全息曝光及显影 | 第101-104页 |
| 5.3.4 刻槽密度测量 | 第104-106页 |
| 5.4 本章小结 | 第106-107页 |
| 第6章 柱面波曝光系统制作平面变栅距光栅的初步分析 | 第107-117页 |
| 6.1 引言 | 第107-108页 |
| 6.2 刻槽弯曲对光栅的影响 | 第108-111页 |
| 6.2.1 刻槽弯曲对光栅刻槽密度函数的影响 | 第109-110页 |
| 6.2.2 刻槽弯曲对光栅光谱分辨能力的影响 | 第110-111页 |
| 6.3 柱面波曝光系统 | 第111-116页 |
| 6.3.1 柱面波曝光系统光栅刻槽密度函数推导 | 第112-114页 |
| 6.3.2 柱面波曝光光路设计 | 第114-116页 |
| 6.4 本章小结 | 第116-117页 |
| 第7章 总结与展望 | 第117-119页 |
| 7.1 论文工作总结 | 第117-118页 |
| 7.2 展望 | 第118-119页 |
| 参考文献 | 第119-127页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第127-129页 |
| 指导教师及作者简介 | 第129-131页 |
| 致谢 | 第131-132页 |
