钛酸钡陶瓷基片双面研抛加工特性研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第13-19页 |
| 1.1 课题研究背景和意义 | 第13-14页 |
| 1.2 钛酸钡陶瓷的制备及加工难点 | 第14-15页 |
| 1.2.1 钛酸钡陶瓷的制备 | 第14-15页 |
| 1.2.2 烧结钛酸钡陶瓷基片加工难点 | 第15页 |
| 1.3 陶瓷材料的研磨抛光技术研究现状 | 第15-17页 |
| 1.4 课题来源及本文的主要研究内容 | 第17-19页 |
| 1.4.1 课题来源 | 第17-18页 |
| 1.4.2 课题研究的主要内容 | 第18-19页 |
| 第二章 双面研磨的实验装置和检测仪器 | 第19-27页 |
| 2.1 双面研磨原理 | 第19-21页 |
| 2.1.1 双面研磨的工作原理 | 第19-20页 |
| 2.1.2 研磨过程中的材料去除机理 | 第20-21页 |
| 2.2 双面研磨实验装置及实验材料 | 第21-22页 |
| 2.2.1 实验设备 | 第21-22页 |
| 2.2.2 实验材料 | 第22页 |
| 2.3 研磨效果评价方法及检测仪器 | 第22-26页 |
| 2.3.1 研磨表面形貌观测 | 第22-24页 |
| 2.3.2 表面粗糙度测量 | 第24-25页 |
| 2.3.3 材料去除率 | 第25-26页 |
| 2.4 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 研磨过程磨粒轨迹分析 | 第27-44页 |
| 3.1 坐标系变换 | 第27-29页 |
| 3.2 单个磨粒研磨轨迹 | 第29-31页 |
| 3.3 单个研磨轨迹仿真 | 第31-38页 |
| 3.3.1 单个磨粒研磨轨迹的仿真步骤 | 第32-33页 |
| 3.3.2 单个磨粒研磨轨迹Matlab仿真程序 | 第33页 |
| 3.3.3 各因素对单个磨粒研磨轨迹的影响 | 第33-38页 |
| 3.4 多个磨粒同时作用的研磨轨迹研究 | 第38-43页 |
| 3.4.1 MATLAB仿真程序 | 第39-40页 |
| 3.4.2 各因素对多个磨粒研磨轨迹的影响 | 第40-42页 |
| 3.4.3 仿真结果分析 | 第42页 |
| 3.4.4 仿真结果对研磨抛光实验的指导 | 第42-43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 纳米压痕实验分析 | 第44-55页 |
| 4.1 纳米压痕技术原理 | 第44-49页 |
| 4.1.1 纳米压痕技术 | 第44-46页 |
| 4.1.2 接触刚度S的确定 | 第46页 |
| 4.1.3 接触面积A的确定 | 第46-47页 |
| 4.1.4 断裂韧性K_c的确定 | 第47-49页 |
| 4.1.5 脆塑性转化临界切深的确定 | 第49页 |
| 4.2 纳米压痕实验 | 第49-51页 |
| 4.3 实验结果 | 第51-54页 |
| 4.3.1 材料的硬度和弹性模量 | 第51-53页 |
| 4.3.2 材料的断裂韧性 | 第53-54页 |
| 4.3.3 脆塑性转化临界切深t_C | 第54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 钛酸钡陶瓷基片双面研磨抛光加工研究 | 第55-68页 |
| 5.1 实验条件 | 第55-56页 |
| 5.1.1 钛酸钡电子陶瓷基片原始参数 | 第55-56页 |
| 5.1.2 实验参数 | 第56页 |
| 5.2 磨料的影响 | 第56-61页 |
| 5.2.1 磨料种类对研磨效果的影响 | 第57-59页 |
| 5.2.2 磨料粒径对研磨效果的影响 | 第59-61页 |
| 5.3 研磨工艺参数的影响 | 第61-65页 |
| 5.3.1 研磨压力对研磨效果的影响 | 第62页 |
| 5.3.2 研磨盘转速对研磨效果的影响 | 第62-63页 |
| 5.3.3 研磨液磨料浓度对研磨效果的影响 | 第63-64页 |
| 5.3.4 研磨液流量对研磨效果的影响 | 第64-65页 |
| 5.4 研磨工艺参数的优选 | 第65-66页 |
| 5.5 抛光实验 | 第66-67页 |
| 5.6 本章小结 | 第67-68页 |
| 总结与展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
