| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1. 简介 | 第9-10页 |
| 1.2. 涂层结构 | 第10-13页 |
| 1.3. 涂层制备方法 | 第13-15页 |
| 1.3.1 电子束物理气相沉积 | 第13-14页 |
| 1.3.2 等离子喷涂 | 第14-15页 |
| 1.4. APS热障涂层失效机理研究 | 第15-17页 |
| 1.4.1 粘结层(BC)和热生长氧化层(TGO)界面裂纹 | 第15-16页 |
| 1.4.2 热生长氧化层(TGO)中裂纹的扩展 | 第16页 |
| 1.4.3 陶瓷层中裂纹的扩展 | 第16-17页 |
| 1.5. 本论文的主要研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 热障涂层制备及表征 | 第19-24页 |
| 2.1 热障涂层的制备 | 第19页 |
| 2.1.1 实验原料 | 第19页 |
| 2.1.2 等离子喷涂制备涂层 | 第19页 |
| 2.2 微观结构表征 | 第19-24页 |
| 2.2.1 电子背散射衍射 | 第19-22页 |
| 2.2.2 FIB-SEM三维表征 | 第22-24页 |
| 第三章 热障涂层裂纹扩展研究 | 第24-39页 |
| 3.1 热障涂层初始状态 | 第24-26页 |
| 3.2 热服役2h后涂层 | 第26-29页 |
| 3.3 热服役20h后涂层 | 第29-35页 |
| 3.3.1 TGO层中裂纹的扩展 | 第29-32页 |
| 3.3.2 片层粒子间裂纹和缺陷的连接和扩展 | 第32-35页 |
| 3.4 热服役50h后涂层 | 第35-38页 |
| 3.5 结论 | 第38-39页 |
| 第四章 TGO层生长机理及微观结构 | 第39-48页 |
| 4.1 TGO层生长机理 | 第40-43页 |
| 4.1.1 Al扩散到界面后TGO层生长 | 第40-42页 |
| 4.1.2 TGO层生长过程中Al等金属扩散机理 | 第42-43页 |
| 4.2 TGO层微观结构 | 第43-47页 |
| 4.2.1 TGO层的厚度 | 第43-45页 |
| 4.2.2. TGO层内部晶粒尺寸和分布 | 第45-47页 |
| 4.3 结论 | 第47-48页 |
| 第五章 总结 | 第48-50页 |
| 5.1 BC/TGO界面间裂纹产生 | 第48页 |
| 5.2 裂纹扩展通过TGO层 | 第48页 |
| 5.3 热服役过程中陶瓷层裂纹的产生和扩展 | 第48-49页 |
| 5.4 TGO层生长机理及微观结构 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 攻读学位期间所开展的科研项目和发表的学术论文 | 第56页 |